[發明專利]一種CLBO晶體拋光工藝在審
| 申請號： | 202011429048.6 | 申請日： | 2020-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN112454019A | 公開（公告）日： | 2021-03-09 |
| 發明（設計）人： | 袁英杰;陳曉潔;葉青;李雄;陳偉;張星;陳秋華 | 申請（專利權）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B41/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 350003 福建*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 clbo 晶體 拋光 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種CLBO晶體拋光工藝，其特征在于：對CLBO采用無水拋光工藝，包括拉亮、粗拋、精拋三個工序，各工序使用的拋光輔料均不含水，解決傳統含水拋光易吸潮開裂的技術難題。
2.根據權利要求1所述無水拋光工藝的拉亮工序，其特征在于：
所述拉亮具體在二軸機上使用蓖麻油和W1.0鉆石粉混合液在聚氨酯盤拉亮去除砂眼并控制平行度。
3.根據權利要求1所述無水拋光工藝的粗拋工序，其特征在于：
所述粗拋具體在二軸機上使用蓖麻油在瀝青盤上進行拋光，控制平面度、平行度、光潔度等加工指標。
4.根據權利要求1所述無水拋光工藝的精拋工序，其特征在于：
所述精拋具體在二軸機上使用無水拋光液OPW在黑色絨布盤上進一步拋光，優化光潔度。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于福建福晶科技股份有限公司，未經福建福晶科技股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011429048.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
