[發明專利]陰極靶裝置及真空多弧離子鍍膜機

在審

• 申請號: 202011428533.1
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112680701A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 戴麗娜
• 申請（專利權）人: 蘇州科億嘉新技術開發有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/50
• 代理公司: 蘇州銘浩知識產權代理事務所(普通合伙) 32246
• 代理人: 季棟林

1.陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，包括離子鍍膜機主體鋼架（1），其特征在于：所述離子鍍膜機主體鋼架（1）的內部設置有固定板（2），所述固定板（1）的下端面設置有螺紋桿（3），且螺紋桿（3）設置有六個，六個所述螺紋桿（3）均與鍍膜機主體鋼架（1）的下端面螺紋連接，六個所述螺紋桿（3）的下端面均設置有柱腳（4），所述離子鍍膜機主體鋼架（1）的上方設置有鍍膜機主體（5）。

2.根據權利要求1所述的陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機主體（5）的上端面設置有伺服電機（6），所述伺服電機（6）的一側設置有固定件（7），所述固定件（7）的一側設置有第一輸送管道（8）。

3.根據權利要求1所述的陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機主體（5）的一側設置有第二輸送管道（15），且第二輸送管道（15）設置有兩個，兩個所述第二輸送管道（15）的下方均設置有第三輸送管道（17），兩個所述第二輸送管道（15）和第三輸送管道（17）之間設置有連接管道（16），且連接管道（16）設置有兩個。

4.根據權利要求1所述的陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機主體（5）的前端面設置有運行端口（9），所述運行端口（9）的前端面設置有檢修擋板（10），所述檢修擋板（10）通過第一旋轉軸（13）與鍍膜機主體（5）轉動連接，且第一旋轉軸（13）設置有兩個。

5.根據權利要求4所述的陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述檢修擋板（10）一側設置有安裝片（11），且安裝片（11）設置有兩個，兩個所述安裝片（11）的內部設置有六角鉚釘（12），且六角鉚釘（12）設置有兩個，所述檢修擋板（10）的內部設置有安裝端口（14）。

6.根據權利要求1所述的陰極弧靶裝置及真空多弧離子鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜機主體（5）的內部設置有內腔體（18），所述內腔體（18）內部的上方設置有中心轉動軸（19），所述中心轉動軸（19）的兩側均設置有連接桿體（21），且連接桿體（21）設置有兩個，兩個所述連接桿體（21）通過第二旋轉軸（20）與中心轉動軸（19）轉動連接，且第二旋轉軸（20）設置有兩個，兩個所述連接桿體（21）的一端均設置有電鍍端口（23），所述電鍍端口（23）通過第三旋轉軸（22）與連接桿體（21）轉動連接，且第三旋轉軸（22）設置有兩個，所述內腔體（18）內部的下方設置有固定基座（24），所述固定基座（24）的上方設置有夾持機構（25），所述夾持機構（25）的內部設置有安裝腔體（26），所述夾持機構（25）內壁的四周均設置有彈簧機構（27），且彈簧機構（27）設置有四個，所述安裝腔體（26）的內部設置有防滑貼片（28）。