[發(fā)明專(zhuān)利]一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011427991.3
• 申請(qǐng)日: 2020-12-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112691968A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 戴麗娜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州科億嘉新技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B08B3/02
• 分類(lèi)號(hào): B08B3/02;B08B1/02;B08B3/12;B08B13/00;B29C63/02;F26B5/16;F26B25/00;F26B23/00;C23C14/02;C23C16/02;C25F1/04
• 代理公司: 蘇州銘浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32246
• 代理人: 季棟林

本發(fā)明公開(kāi)了一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，涉及基片鍍膜加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，為解決現(xiàn)有的如何在保證清洗效率的前提下提高基片清洗效果的問(wèn)題。所述外殼內(nèi)部的上端固定設(shè)置有導(dǎo)軌，所述安裝頭的下端安裝有夾持裝置，所述夾持裝置的下端設(shè)置有基片，所述外殼內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有沖洗腔，所述沖洗腔的一側(cè)設(shè)置有超聲波清洗腔，所述超聲波清洗腔的下端設(shè)置有第一清洗槽，所述換能器的下方安裝有超聲發(fā)生器，所述超聲波清洗腔的一側(cè)設(shè)置有等離子清洗腔，所述等離子清洗腔的下方設(shè)置有第二清洗槽，所述第二清洗槽內(nèi)部的兩側(cè)均安裝有石墨陰極，所述等離子清洗腔的一側(cè)設(shè)置有烘干腔，所述烘干腔的一側(cè)設(shè)置有防塵處理腔，所述放卷輥的外部設(shè)置有防塵膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基片鍍膜加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備。

背景技術(shù)

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜，真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類(lèi)，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。

然而，影響真空鍍膜效果的一個(gè)重要因素是鍍膜與基片之間的結(jié)合力，結(jié)合力較低的話易導(dǎo)致鍍膜從基片的表面脫落，實(shí)踐證明，基片表面的凈潔度在真空鍍膜過(guò)程中是影響鍍膜與基片結(jié)合力強(qiáng)弱的一個(gè)重要因素，所以在基片鍍膜之前，需要使用清洗設(shè)備對(duì)其進(jìn)行清洗，使其表面保持潔凈。

但是，現(xiàn)有的基片清洗設(shè)備在使用過(guò)程中存在一定的缺陷：一、清洗結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，不能夠有效地去除基片表面的附著物；二、清洗過(guò)程較為復(fù)雜，在對(duì)基片進(jìn)行大批量加工時(shí)，整體效率較低，因此不滿足現(xiàn)有的需求，對(duì)此我們提出了一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的如何在保證清洗效率的前提下提高基片清洗效果的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，包括外殼，所述外殼內(nèi)部的上端固定設(shè)置有導(dǎo)軌，且導(dǎo)軌的兩端均延伸至外殼的外部，所述導(dǎo)軌的外部滑動(dòng)安裝有滑動(dòng)塊，所述滑動(dòng)塊的下端安裝有第一電動(dòng)推桿，所述第一電動(dòng)推桿的下端固定設(shè)置有安裝頭，所述安裝頭的下端安裝有夾持裝置，所述夾持裝置的下端設(shè)置有基片，所述外殼內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有沖洗腔，所述沖洗腔的一側(cè)設(shè)置有超聲波清洗腔，所述超聲波清洗腔的下端設(shè)置有第一清洗槽，所述第一清洗槽的下端設(shè)置有換能器，且換能器設(shè)置有三個(gè)，所述換能器的下方安裝有超聲發(fā)生器，所述超聲波清洗腔的一側(cè)設(shè)置有等離子清洗腔，所述等離子清洗腔的下方設(shè)置有第二清洗槽，所述第二清洗槽內(nèi)部的兩側(cè)均安裝有石墨陰極，所述等離子清洗腔的一側(cè)設(shè)置有烘干腔，所述烘干腔的一側(cè)設(shè)置有防塵處理腔，所述防塵處理腔的內(nèi)部轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有放卷輥，且放卷輥安裝有兩個(gè)，所述放卷輥的外部設(shè)置有防塵膜。

優(yōu)選的，所述安裝頭的內(nèi)部固定安裝有第一伺服電機(jī)，所述安裝頭與夾持裝置之間設(shè)置有連接塊，且第一伺服電機(jī)的輸出端與連接塊的上端固定連接，所述連接塊與夾持裝置的上端通過(guò)轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述夾持裝置內(nèi)部的中間位置處設(shè)置有固定座，所述固定座的兩側(cè)均轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有絲杠，所述夾持裝置的兩側(cè)均安裝有第二伺服電機(jī)，且第二伺服電機(jī)的輸出軸與絲杠的一端通過(guò)聯(lián)軸器傳動(dòng)連接，所述絲杠的外部安裝有夾板，且?jiàn)A板與絲杠通過(guò)螺紋配合，所述夾板的內(nèi)側(cè)與基片相貼合。

優(yōu)選的，所述沖洗腔內(nèi)部的兩側(cè)均設(shè)置有集水管，且集水管設(shè)置有兩個(gè)，所述集水管的一側(cè)均固定安裝有清潔液噴頭，且清潔液噴頭安裝有五個(gè)，所述集水管的一側(cè)均安裝有毛輥，所述毛輥與外殼通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述清潔液噴頭與毛輥呈間隔分布。

優(yōu)選的，所述第一清洗槽的外部均設(shè)置有支撐彈簧，支撐彈簧設(shè)置有若干個(gè)，且第一清洗槽與外殼通過(guò)支撐彈簧固定連接，所述第一清洗槽的內(nèi)部設(shè)有水基清洗劑，所述第一清洗槽上端的邊緣固定設(shè)置有擋板。