[發(fā)明專利]一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011427991.3
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112691968A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴麗娜
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州科億嘉新技術(shù)開發(fā)有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B1/02;B08B3/12;B08B13/00;B29C63/02;F26B5/16;F26B25/00;F26B23/00;C23C14/02;C23C16/02;C25F1/04
• 代理公司: 蘇州銘浩知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32246
• 代理人: 季棟林

1.一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，包括外殼（1），其特征在于：所述外殼（1）內(nèi)部的上端固定設(shè)置有導(dǎo)軌（2），且導(dǎo)軌（2）的兩端均延伸至外殼（1）的外部，所述導(dǎo)軌（2）的外部滑動安裝有滑動塊（3），所述滑動塊（3）的下端安裝有第一電動推桿（4），所述第一電動推桿（4）的下端固定設(shè)置有安裝頭（5），所述安裝頭（5）的下端安裝有夾持裝置（6），所述夾持裝置（6）的下端設(shè)置有基片（7），所述外殼（1）內(nèi)部的一側(cè)設(shè)置有沖洗腔（8），所述沖洗腔（8）的一側(cè)設(shè)置有超聲波清洗腔（12），所述超聲波清洗腔（12）的下端設(shè)置有第一清洗槽（13），所述第一清洗槽（13）的下端設(shè)置有換能器（14），且換能器（14）設(shè)置有三個，所述換能器（14）的下方安裝有超聲發(fā)生器（15），所述超聲波清洗腔（12）的一側(cè)設(shè)置有等離子清洗腔（19），所述等離子清洗腔（19）的下方設(shè)置有第二清洗槽（20），所述第二清洗槽（20）內(nèi)部的兩側(cè)均安裝有石墨陰極（21），所述等離子清洗腔（19）的一側(cè)設(shè)置有烘干腔（22），所述烘干腔（22）的一側(cè)設(shè)置有防塵處理腔（27），所述防塵處理腔（27）的內(nèi)部轉(zhuǎn)動安裝有放卷輥（29），且放卷輥（29）安裝有兩個，所述放卷輥（29）的外部設(shè)置有防塵膜（31）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述安裝頭（5）的內(nèi)部固定安裝有第一伺服電機(jī)（34），所述安裝頭（5）與夾持裝置（6）之間設(shè)置有連接塊（42），且第一伺服電機(jī)（34）的輸出端與連接塊（42）的上端固定連接，所述連接塊（42）與夾持裝置（6）的上端通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動連接，所述夾持裝置（6）內(nèi)部的中間位置處設(shè)置有固定座（37），所述固定座（37）的兩側(cè)均轉(zhuǎn)動安裝有絲杠（36），所述夾持裝置（6）的兩側(cè)均安裝有第二伺服電機(jī)（35），且第二伺服電機(jī)（35）的輸出軸與絲杠（36）的一端通過聯(lián)軸器傳動連接，所述絲杠（36）的外部安裝有夾板（38），且夾板（38）與絲杠（36）通過螺紋配合，所述夾板（38）的內(nèi)側(cè)與基片（7）相貼合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述沖洗腔（8）內(nèi)部的兩側(cè)均設(shè)置有集水管（9），且集水管（9）設(shè)置有兩個，所述集水管（9）的一側(cè)均固定安裝有清潔液噴頭（10），且清潔液噴頭（10）安裝有五個，所述集水管（9）的一側(cè)均安裝有毛輥（11），所述毛輥（11）與外殼（1）通過軸承轉(zhuǎn)動連接，所述清潔液噴頭（10）與毛輥（11）呈間隔分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述第一清洗槽（13）的外部均設(shè)置有支撐彈簧（40），支撐彈簧（40）設(shè)置有若干個，且第一清洗槽（13）與外殼（1）通過支撐彈簧（40）固定連接，所述第一清洗槽（13）的內(nèi)部設(shè)有水基清洗劑，所述第一清洗槽（13）上端的邊緣固定設(shè)置有擋板（18）。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述第二清洗槽（20）的內(nèi)部設(shè)有電解液。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述第一清洗槽（13）和第二清洗槽（20）的一側(cè)均安裝有液體濃度傳感器（41），且液體濃度傳感器（41）的檢測端分別延伸至第一清洗槽（13）和第二清洗槽（20）的內(nèi)部，所述第一清洗槽（13）和第二清洗槽（20）下端的一側(cè)均設(shè)置有排液口（16），所述第一清洗槽（13）和第二清洗槽（20）下端的另一側(cè)均設(shè)置有進(jìn)液管（39），所述排液口（16）與進(jìn)液管（39）的外部均安裝有電控閥門，所述第一清洗槽（13）和第二清洗槽（20）的外部均設(shè)置有水泵（17），所述水泵（17）的一端與進(jìn)液管（39）相連通，且液體濃度傳感器（41）與水泵（17）電性連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述烘干腔（22）內(nèi)部的兩側(cè)均設(shè)置有烘干孔（23），且烘干孔（23）設(shè)置有五個，所述烘干腔（22）的底部固定設(shè)置有集液盤（24），所述集液盤（24）的上端呈環(huán)形陣列開設(shè)有若干丙酮噴頭（25），所述烘干腔（22）的下端設(shè)置有儲液罐（26），且儲液罐（26）與集液盤（24）通過連接管密封固定。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜加工清洗設(shè)備，其特征在于：所述防塵處理腔（27）的底部設(shè)置有輸送機(jī)構(gòu)（28），所述輸送機(jī)構(gòu)（28）上端的兩側(cè)均轉(zhuǎn)動安裝有張力輥（30），所述放卷輥（29）之間安裝有第二電動推桿（32），且第二電動推桿（32）與外殼（1）通過螺栓固定，所述第二電動推桿（32）的下端固定設(shè)置有壓板（33）。