[發明專利]一種提升阻抗精度的控制方法

有效

• 申請號: 202011427896.3
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN112654158B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 吳飛;雷紅慧;張德金;程卓;寧玉杰;謝奉光
• 申請（專利權）人: 廣州廣合科技股份有限公司
• 主分類號: H05K3/00
• 分類號: H05K3/00
• 代理公司: 廣州市時代知識產權代理事務所(普通合伙) 44438
• 代理人: 楊樹民

1.一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于，包括如下步驟：

對殘銅率進行預估，得到生產殘銅率預估值；

基于生產殘銅率預估值計算出介質層厚度，進而計算出阻抗和差損；

計算出生產殘銅率實際值；

計算生產殘銅率實際值和生產殘銅率預估值之間的差值m；

比較m和10％的大小；若m小于10％，則滿足阻抗精度，若m大于10％，則采用生產殘銅率實際值更新生產殘銅率預估值重新計算介質層厚度和阻抗，直至滿足生產殘銅率實際值和生產殘銅率預估值之間的差值m小于10％。

2.根據權利要求1所述的一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于：所述對殘銅率進行預估，得到生產殘銅率預估值包括；

獲取單元板殘銅率數據；

基于所述單元板殘銅率數據、并根據第一方程式計算生產殘銅率預估值，所述第一方程式為：生產殘銅率預估值＝單元板殘銅率+X，其中，X為變量，所述X的大小取決于單元板殘銅率的大小。

3.根據權利要求1所述的一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于：所述計算生產殘銅率實際值包括；

制作工程資料，利用所述介質層厚度、阻抗和差損數據制作工程資料；

待工程資料制作完成，自動化腳本輸出生產殘銅率實際值。

4.根據權利要求2所述的一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于：所述第一方程式是基于內層銅厚≤2OZ的前提下，若內層銅厚2OZ，則還要考慮產線的蝕刻損耗，將計算出的生產殘銅率實際值減去產線的蝕刻損耗；所述生產殘銅率實際值的計算過程包括：制作工程資料，利用所述介質層厚度、阻抗和差損數據制作工程資料；待工程資料制作完成，自動化腳本輸出生產殘銅率實際值。

5.根據權利要求1所述的一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于：所述基于生產殘銅率預估值計算出介質層厚度，進而計算出阻抗和差損中的計算阻抗是通過阻抗計算軟件對阻抗進行模擬計算。

6.根據權利要求5所述的一種提升阻抗精度的控制方法，其特征在于：所述阻抗計算軟件選用計算軟件Polar SI8000K控制阻抗快速解算器進行模擬計算得到阻抗值。