[發明專利]一種氮化鎵反應釜的分部清洗裝置及分部清洗方法

在審

• 申請號: 202011427308.6
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112620270A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發明（設計）人: 喬焜;邵文鋒;林岳明
• 申請（專利權）人: 國鎵芯科（深圳）半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/093
• 分類號: B08B9/093;B08B13/00;F26B21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，用于清洗至少具有釜蓋(602)和釜體(601)的反應釜，其特征在于，包括清洗模組和管路系統(4)，所述清洗模組至少包括若干用于清洗釜體(601)的釜體(601)清洗部(1)、以及若干用于清洗釜蓋(602)的釜蓋(602)清洗部(2)，所述管路系統(4)將反應溶液、水和高溫氣體依次地分別通入釜體(601)清洗部(1)和釜蓋(602)清洗部(2)，以釜體(601)清洗部(1)中的釜體(601)和清洗釜蓋(602)清洗部(2)中的釜蓋(602)。

2.根據權利要求1所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述分部清洗裝置用于清洗包括釜蓋(602)、釜體(601)和連接件的反應釜，所述清洗模組包括用于清洗釜體(601)的釜體(601)清洗部(1)、用于清洗釜蓋(602)的釜蓋(602)清洗部(2)、以及用于清洗連接件的連接件清洗部(3)。

3.根據權利要求2所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述管路系統(4)包括溶液槽(401)、主水管(402)、氣體控制箱(403)、進液管(404)、進水管(406)、進氣管(408)和噴淋管(409)；所述溶液槽(401)用于盛放反應溶液，且通過若干進液管(404)將反應溶液分別通入不同清洗部；所述主水管(402)內通有水，且通過若干進水管(406)將水分別通入清洗模組當中的不同清洗部；所述氣體控制箱(403)用于加熱氣體，且通過進氣管(408)將高溫氣體分別通入不同清洗部。

4.根據權利要求3所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述釜體(601)清洗部(1)為輔槽一(101)，所述輔槽一(101)設有至少兩個清洗工位(102)；且兩個清洗工位(102)共用一個漏液槽(103)，所述漏液槽(103)用于盛裝從釜體(601)溢出的水。

5.根據權利要求4所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述清洗工位(102)設有均呈U型設置的液水彎管(104)和氣水彎管(105)，所述液水彎管(104)一端同時連通進液管(404)和進水管(406)，所述氣水彎管(105)一端同時連通噴淋管(409)和氣體控制箱(403)；當釜體(601)置于清洗工位(102)時，所述液水彎管(104)或氣水彎管(105)的另一端伸至釜體(601)內部。

6.根據權利要求3所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述釜蓋(602)清洗部(2)包括至少兩個輔槽，釜蓋(602)在其中一個輔槽中進行反應工序和沖洗工序，且在另一個輔槽當中進行干燥工序。

7.根據權利要求6所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述釜蓋(602)清洗部(2)包括輔槽二(201)、輔槽三(202)和輔槽四(203)；所述輔槽二(201)通過進液管(404)與溶液槽(401)連通，釜蓋(602)在所述輔槽二(201)中進行反應工序；所述輔槽三(202)通過進水管(406)與主水管(402)連通，釜蓋(602)在輔槽三(202)中進行水沖洗工序；所述輔槽四(203)通過進氣管(408)與氣體控制箱(403)連通，釜蓋(602)在輔槽四(203)中進行干燥工序。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述分部清洗裝置還包括帶有供液泵(501)和回收泵(502)的控制系統，所述供液泵(501)通過進液管(404)將反應溶液泵至清洗模組，在完成反應后，回收泵(502)將反應溶液通過溶液抽液管(405)泵回溶液槽(401)。

9.根據權利要求1-7中任一項所述的氮化鎵反應釜的分部清洗裝置，其特征在于，所述釜體(601)清洗部(1)設置有m組，所述釜蓋(602)清洗部(2)設置有n組，其中，m和n均≥1。