[發明專利]氣體封入模塊和氣體分析儀

在審

• 申請號: 202011426830.2
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN113049516A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 高橋佑輔;伊東俊哉
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/3504
• 分類號: G01N21/3504;G01N21/01
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 鹿屹;李雪春

1.一種氣體封入模塊，具備封入有氣體的兩個氣體室，所述氣體封入模塊的特征在于，包括：

塊狀的主體部；

貫通孔，貫通所述主體部；

第一透射窗，在所述貫通孔的中途堵塞所述貫通孔，并且使紅外光通過；

環狀部件，粘接于所述貫通孔的一端的周緣；以及

第二透射窗，堵塞所述環狀部件的開口，并且使紅外光通過，

所述兩個氣體室中的一方的氣體室是被所述第一透射窗和所述第二透射窗夾著的空間，

在所述主體部與所述環狀部件彼此粘接的部分的至少一方形成有圍繞所述貫通孔的多個環狀槽。

2.根據權利要求1所述的氣體封入模塊，其特征在于，

所述第二透射窗粘接于所述環狀部件，

所述環狀部件的粘接所述第二透射窗的部分形成有圍繞所述環狀部件的開口的多個環狀槽。

3.根據權利要求1或2所述的氣體封入模塊，其特征在于，

所述氣體封入模塊還包括第三透射窗，所述第三透射窗粘接于所述貫通孔的另一端的周緣并堵塞所述貫通孔，并且使紅外光通過，

所述兩個氣體室中的另一方的氣體室是被所述第一透射窗和所述第三透射窗夾著的空間，

所述主體部的粘接所述第三透射窗的部分形成有圍繞所述貫通孔的多個環狀槽。

4.根據權利要求1至3中任意一項所述的氣體封入模塊，其特征在于，

所述多個環狀槽各自具有深度比其他部分增大的增大部分，

所述多個環狀槽所含的多個所述增大部分不排列成包含全部的所述增大部分的線狀。

5.根據權利要求1至4中任意一項所述的氣體封入模塊，其特征在于，所述多個環狀槽分別利用激光雕刻而成。

6.根據權利要求5所述的氣體封入模塊，其特征在于，所述多個環狀槽為同心狀，從內側的環狀槽朝向外側的環狀槽依次形成。

7.一種氣體封入模塊，具備封入有氣體的兩個氣體室，所述氣體封入模塊的特征在于，包括：

塊狀的主體部；

貫通孔，貫通所述主體部；

第一透射窗，在所述貫通孔的中途堵塞所述貫通孔，并且使紅外光通過；

環狀部件，粘接于所述貫通孔的一端的周緣；以及

第二透射窗，堵塞所述環狀部件的開口，并且使紅外光通過，

所述兩個氣體室中的一方的氣體室是被所述第一透射窗和所述第二透射窗夾著的空間，

在所述主體部與所述環狀部件彼此粘接的部分的至少一方，在所述貫通孔的周圍形成有多個槽，

所述多個槽利用激光雕刻而成。

8.一種氣體分析儀，用于對分析對象的氣體所含的特定的氣體成分的濃度進行分析，所述氣體分析儀的特征在于，包括：

權利要求1至7中任意一項所述的氣體封入模塊；

光源，發射紅外光；以及

池，供所述分析對象的氣體流通，

所述氣體封入模塊所具有的兩個氣體室中封入有包含所述特定的氣體成分的氣體，

所述氣體封入模塊和所述池配置成使來自所述光源的紅外光通過在所述池中流通的所述分析對象的氣體，并且使通過了所述分析對象的氣體的紅外光依次通過所述兩個氣體室，

所述氣體封入模塊具有：

連通路徑，與所述兩個氣體室連通；以及

流量傳感器，測定通過所述連通路徑而在所述兩個氣體室之間流動的氣體的流量。