[發明專利]一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法

有效

• 申請號: 202011422601.3
• 申請日: 2020-12-08
• 公開（公告）號: CN112619680B
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 何仰清;魏娜梅;馬占營;楊謙;姚秉華
• 申請（專利權）人: 西安理工大學
• 主分類號: B01J27/24
• 分類號: B01J27/24;B01J37/10;B01J37/16;B01J37/34;C02F1/30;C09K17/02;B09C1/08;C09K101/00;C02F101/34;C02F101/38
• 代理公司: 西安弘理專利事務所 61214
• 代理人: 劉娜

本發明公開了一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，具體為：首先，將MoS₂、g?C₃N₄和去離子水混合，超聲處理；放入高壓釜中，進行水熱反應，得到MoS₂/g?C₃N₄復合物；將MoS₂/g?C₃N₄復合物分散于去離子水和甲醇的混合溶液中，攪拌，之后向溶液中加入氯金酸溶液，使用氙燈對其照射，并用氣泵進行鼓氣；洗滌，干燥，得到AuNPs/MoS₂/g?C₃N₄三相復合材料，即為土霉素殘留物清除劑。利用納米金和MoS₂雙重敏化的g?C₃N₄復合材料，能對抗生素殘留物進行清除，制備過程對設備要求低、反應條件溫和，合成工藝簡單易于實現。

技術領域

本發明屬于材料制備技術領域，具體涉及一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法。

背景技術

抗生素殘留物作為最嚴重的環境污染物之一，其對人類健康和生態系統的潛在威脅日益嚴重，引起人們的廣泛關注。土霉素是一種廣譜抗生素，在水產及畜禽養殖業中有著廣泛的應用，也是全球產量最大的抗生素之一。由于其半衰期較長，大量排放于水體和土壤環境中的土霉素不容易被生物降，導致其在環境中大量的殘留。此外，土霉素的殘留可以為耐藥菌和耐藥基因提供良好的繁殖和傳播環境，這兩種潛在的抗生素耐藥性對人和動物都構成了嚴重的健康威脅。近年來，耐藥細菌在世界范圍內引起的高發病率表明，抗生素耐藥性是21世紀最主要的健康挑戰之一。因此，探索有效的抗生素殘留消除方法迫在眉睫。

g-C₃N₄是一種典型的非金屬光催化劑，具有不易分解、不易溶于水、耐強堿和強酸腐蝕、廉價易得、節能環保等優點，由于其獨特的化學性質和熱穩定性，圍繞g-C₃N₄復合光催化材料的合成日漸成為光催化領域的研究熱點之。但禁帶寬度加大，對可見光的捕獲能力低，光生電子對易復合等缺點，大大限制了其實際應用。MoS₂具有良好的光敏性、光電響應速率快、催化活性高等特性而廣泛應用于光催化領域。另外，納米金顆粒(AuNPs)具有優異的光學特性和電子傳輸性能，是一種常用貴金屬共催化劑。為研制一種高效的土霉素殘留物光催化降解材料，研究一種基于MoS₂和AgNPs雙重敏化的g-C₃N₄復合材料尤為重要。

發明內容

本發明的目的是提供一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，該清除劑能夠高效催化降解土霉素殘留物。

本發明所采用的技術方案是，一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，具體按照以下步驟實施：

步驟1，將MoS₂、g-C₃N₄和去離子水混合，超聲處理；然后將其放入高壓釜中，進行水熱反應，得到MoS₂/g-C₃N₄復合物；

步驟2，將MoS₂/g-C₃N₄復合物分散于去離子水和甲醇的混合溶液中，攪拌，之后向溶液中加入氯金酸溶液，在磁力攪拌條件下，使用氙燈對其照射，并用氣泵進行鼓氣；待照射完畢后，將反應產物采用去離子水進行洗滌，干燥，得到AuNPs/MoS₂/g-C₃N₄三相復合材料，即為土霉素殘留物清除劑。

本發明的特點還在于，

步驟1中，MoS₂、g-C₃N₄和去離子水的質量比為1：99～199：39601。