[發明專利]一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法有效
| 申請號： | 202011422601.3 | 申請日： | 2020-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN112619680B | 公開（公告）日： | 2022-11-04 |
| 發明（設計）人： | 何仰清;魏娜梅;馬占營;楊謙;姚秉華 | 申請（專利權）人： | 西安理工大學 |
| 主分類號： | B01J27/24 | 分類號： | B01J27/24;B01J37/10;B01J37/16;B01J37/34;C02F1/30;C09K17/02;B09C1/08;C09K101/00;C02F101/34;C02F101/38 |
| 代理公司： | 西安弘理專利事務所 61214 | 代理人： | 劉娜 |
| 地址： | 710048 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 氮化 土霉素 殘留物 清除 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，其特征在于，具體按照以下步驟實施：
步驟1，將MoS2、g-C3N4和去離子水混合，超聲處理；然后將其放入高壓釜中，進行水熱反應，得到MoS2/g-C3N4復合物；
MoS2、g-C3N4和去離子水的質量比為1：99~199：39601；超聲處理時間為1h；
步驟2，將MoS2/g-C3N4復合物分散于去離子水和甲醇的混合溶液中，攪拌，之后向溶液中加入氯金酸溶液，在磁力攪拌條件下，使用氙燈對其照射，并用氣泵進行鼓氣；待照射完畢后，將反應產物采用去離子水進行洗滌，干燥，得到 AuNPs/MoS2/g-C3N4三相復合材料，即為土霉素殘留物清除劑；
MoS2/g-C3N4復合物、混合溶液、氯金酸溶液的質量比為0.8000：48.0895：0.1650；混合溶液中去離子水和甲醇的體積比為4：1。
2.根據權利要求1所述的一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，其特征在于，所述步驟1中，水熱反應溫度為150~170°C，水熱反應時間為10h。
3.根據權利要求1所述的一種基于氮化碳的土霉素殘留物清除劑的制備方法，其特征在于，所述步驟2中，攪拌時間為1h；照射時間為30min。
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