[發明專利]反應室以及爐管設備在審
| 申請號： | 202011421641.6 | 申請日： | 2020-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN112553595A | 公開（公告）日： | 2021-03-26 |
| 發明（設計）人： | 張勇;李國慶;李銳;羅偉斌 | 申請（專利權）人： | 深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44;C23C16/50 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 林明校 |
| 地址： | 518118 廣東省深圳市坪山*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反應 以及 爐管 設備 | ||
1.反應室，其特征在于，包括：
爐體，設置有沿軸向貫通的第一腔體；
第一爐管，容置在所述第一腔體內，所述第一爐管的材質為不銹鋼材質，所述第一爐管設置有沿軸向貫通的第二腔體；
支撐部，至少包括兩個，分別設置在所述第一爐管的軸向的兩端，并支撐所述第一爐管；
蓋部，設置在所述第一爐管的軸向的一端，封堵所述第二腔體；
門部，設置在所述第一爐管的軸向的另一端，封堵所述第二腔體或者使所述第二腔體被打開。
2.根據權利要求1所述的反應室，其特征在于，所述第一爐管的材質為從304號不銹鋼、309號不銹鋼、309S號不銹鋼、309L號不銹鋼、310號不銹鋼、310S號不銹鋼、310L號不銹鋼以及316L號不銹鋼中選擇的一種。
3.根據權利要求1或2所述的反應室，其特征在于，所述第一爐管的壁厚為0.8mm至6mm。
4.根據權利要求1或2所述的反應室，其特征在于，所述第一爐管的橫截面呈圓形狀或者矩形狀。
5.根據權利要求1所述的反應室，其特征在于，還包括管路部，所述管路部經由所述蓋部，伸進所述第二腔體內。
6.根據權利要求5所述的反應室，其特征在于，所述管路部包括多根管件，所述管件的材料為石英材料或者不銹鋼材料。
7.根據權利要求5所述的反應室，其特征在于，所述管路部包括冷卻管件。
8.根據權利要求5所述的反應室，其特征在于，所述管路部包括進氣管件，所述進氣管件沿軸向開設有多個進氣孔。
9.根據權利要求5所述的反應室，其特征在于，所述管路部包括抽氣管件，所述抽氣管件沿軸向開設有多個抽氣孔。
10.根據權利要求6所述的反應室，其特征在于，所述第一爐管的內壁上，設置有卡套，所述管件在所述第二腔體內被所述卡套支撐。
11.根據權利要求1所述的反應室，其特征在于，所述反應室為PECVD設備的反應室，所述第一爐管通過串聯電阻接地。
12.根據權利要求1所述的反應室，其特征在于，所述反應室為雙爐管結構，所述反應室還包括第二爐管，所述第二爐管設置有沿軸向貫通的第三腔體，所述第二爐管容置在所述第一腔體內，所述第一爐管容置在所述第三腔體內。
13.爐管設備，其特征在于，包括權利要求1至12中任一項所述的反應室。
14.根據權利要求13所述的爐管設備，其特征在于，還包括石墨舟，所述石墨舟可被推入所述第一爐管內或者從所述第一爐管內被推出，所述石墨舟的舟腳處，設置有絕緣件。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
