[發(fā)明專利]一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011419640.8 | 申請日: | 2020-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN113186511B | 公開(公告)日: | 2022-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬君健;王曉瑩;徐宏;吳振華;周德金;鐘磊 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫英諾賽思科技有限公司;清華大學(xué)無錫應(yīng)用技術(shù)研究院;江南大學(xué) |
| 主分類號: | C23C16/34 | 分類號: | C23C16/34;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京智宇正信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11876 | 代理人: | 于理科 |
| 地址: | 214100 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 量產(chǎn) 氮化 立式 hpve 設(shè)備 | ||
1.一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,包括支腿(1)和外殼體(2),其特征在于:所述外殼體(2)底端的四個拐角處固定連接有支腿(1),所述外殼體(2)的內(nèi)部設(shè)置有內(nèi)殼體(3),所述外殼體(2)一端四個拐角處的內(nèi)部設(shè)置有卡槽(7),所述外殼體(2)的一端設(shè)置有蓋板(4),所述蓋板(4)一端的四個拐角處固定連接有圓塊(8),所述蓋板(4)的另一端固定連接有把手(23),所述外殼體(2)的內(nèi)壁固定連接有電熱絲(5),所述外殼體(2)和內(nèi)殼體(3)的內(nèi)部設(shè)置有保溫結(jié)構(gòu)(6),所述內(nèi)殼體(3)的內(nèi)部設(shè)置有輔助旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)(24),所述外殼體(2)的頂端設(shè)置有第一氣室(10),所述第一氣室(10)的底端設(shè)置有出氣管(9),所述第一氣室(10)的頂端設(shè)置有第二氣室(12),所述第二氣室(12)的頂端設(shè)置有生長室(14),所述生長室(14)的一側(cè)設(shè)置有進氣口(15),所述生長室(14)的頂端活動連接有密封蓋(16),所述生長室(14)與第二氣室(12)的內(nèi)部之間設(shè)置有連接口(13),所述第二氣室(12)與第一氣室(10)的內(nèi)部之間設(shè)置有輔助均勻結(jié)構(gòu)(11),所述第一氣室(10)設(shè)置有兩組,每一組上均設(shè)置有輔助均勻結(jié)構(gòu)(11),所述第一氣室(10)的大小相同,所述第一氣室(10)關(guān)于外殼體(2)的中心線呈對稱分布,所述出氣管(9)與內(nèi)殼體(3)的內(nèi)部相連通;所述生長室(14)的內(nèi)部設(shè)置有便于拿取結(jié)構(gòu);所述便于拿取結(jié)構(gòu)包括固定柱(22),所述固定柱(22)的底端與生長室(14)內(nèi)部的底端固定連接,所述固定柱(22)的外部設(shè)置有套筒(19),所述套筒(19)的頂端固定連接有凸塊(18),所述套筒(19)的外部固定連接有軸套(21),所述軸套(21)的外部固定連接有放置板(17),所述放置板(17)頂端的內(nèi)部設(shè)置有放置槽(20)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述保溫結(jié)構(gòu)(6)由預(yù)留槽(601)、安置槽(602)、巖棉(603)和卡塊(604)組成,所述安置槽(602)設(shè)置在內(nèi)殼體(3)和支腿(1)的內(nèi)部之間,所述安置槽(602)的內(nèi)部設(shè)置有巖棉(603),所述巖棉(603)的一端設(shè)置有卡塊(604),所述卡塊(604)的一端設(shè)置有預(yù)留槽(601),所述卡塊(604)的底端與內(nèi)殼體(3)的外部分別固定連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述預(yù)留槽(601)嵌在支腿(1)一端的內(nèi)部,所述卡塊(604)的一端嵌在預(yù)留槽(601)的內(nèi)部,所述巖棉(603)包裹在內(nèi)殼體(3)的外壁。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述輔助均勻結(jié)構(gòu)(11)由框架(1101)、圓槽(1102)、連接座(1103)、葉片(1104)和軸體(1105)組成,所述圓槽(1102)設(shè)置在第一氣室(10)與第二氣室(12)的內(nèi)部之間,所述圓槽(1102)的頂端和底端固定連接有框架(1101),所述框架(1101)的內(nèi)部固定連接有連接座(1103),所述連接座(1103)之間固定連接有軸體(1105),所述軸體(1105)的外壁固定連接有葉片(1104)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述葉片(1104)設(shè)置有若干個,所述軸體(1105)的外壁呈等間距排列。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述圓槽(1102)與第一氣室(10)之間相對應(yīng),所述圓槽(1102)與第一氣室(10)和第二氣室(12)之間相連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述套筒(19)套接在固定柱(22)的外部,所述放置板(17)呈圓形,所述放置槽(20)的底部設(shè)置有加熱片。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可量產(chǎn)氮化鎵的全立式HPVE設(shè)備,其特征在于:所述輔助旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)(24)由襯底(2401)、支撐板(2402)、支撐座(2403)、連接板(2404)、轉(zhuǎn)軸(2405)、減速電機(2406)、安裝塊(2407)和安裝槽(2408)組成,所述減速電機(2406)設(shè)置在支腿(1)的底端,所述減速電機(2406)的輸出端通過驅(qū)動軸貫穿支腿(1)底端的內(nèi)部并固定連接有轉(zhuǎn)軸(2405),所述轉(zhuǎn)軸(2405)的頂端固定連接有連接板(2404),所述連接板(2404)頂端的兩側(cè)固定連接有安裝塊(2407),所述連接板(2404)的頂端設(shè)置有支撐座(2403),所述支撐座(2403)底端的內(nèi)部設(shè)置有安裝槽(2408),所述支撐座(2403)的頂端固定連接有支撐板(2402),所述支撐板(2402)的頂端設(shè)置有襯底(2401)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
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