[發(fā)明專(zhuān)利]一種ALD反應(yīng)器

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011411806.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112458436A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 萬(wàn)軍;廖海濤;王斌;王輝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 無(wú)錫市邑晶半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/455;C23C16/52;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述反應(yīng)器包括：

真空腔室；

反應(yīng)腔室，所述反應(yīng)腔室內(nèi)置于所述真空腔室內(nèi)，所述反應(yīng)腔室頂部敞口，所述反應(yīng)腔室的底部開(kāi)設(shè)有進(jìn)氣通道及出氣通道，所述進(jìn)氣通道和所述出氣通道以所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)相對(duì)設(shè)置；

封蓋，所述封蓋可操作地將所述反應(yīng)腔室頂部密封。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于：所述進(jìn)氣通道為孔狀，所述進(jìn)氣通道設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述進(jìn)氣通道設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底部的一側(cè)；

所述出氣通道為孔狀，所述出氣通道也設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述出氣通道設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底部的另一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于：所述進(jìn)氣通道設(shè)置有多組，多組所述進(jìn)氣通道沿第二方向依次設(shè)置，每組所述進(jìn)氣通道均呈弧形，每組所述進(jìn)氣通道的各個(gè)進(jìn)氣通道的孔徑向靠近所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)的方向依次減小；

所述出氣通道設(shè)置有多組，多組所述出氣通道沿第二方向依次設(shè)置，每組所述出氣通道均呈弧形，每組所述出氣通道的各個(gè)進(jìn)氣通道的孔徑向靠近所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)的方向依次減小。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述進(jìn)氣通道為條狀，所述進(jìn)氣通道設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述進(jìn)氣通道設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底部的一側(cè)；

所述出氣通道為條狀，所述出氣通道也設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述出氣通道設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底部的另一側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述進(jìn)氣通道的第二方向的尺寸向靠近所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)的方向依次減小；

所述出氣通道的第二方向的尺寸向靠近所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)的方向依次減小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)勻氣板，兩個(gè)所述勻氣板以所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)相對(duì)設(shè)置，兩個(gè)所述勻氣板設(shè)置在所述進(jìn)氣通道及出氣通道之間，兩個(gè)所述勻氣板將所述反應(yīng)腔室沿第二方向分割成進(jìn)氣腔室、反應(yīng)腔室以及出氣腔室，每個(gè)所述勻氣板上均設(shè)置多個(gè)通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述反應(yīng)腔室的底部固定設(shè)置有中轉(zhuǎn)腔室，所述中轉(zhuǎn)腔室的頂部敞口，所述反應(yīng)腔室的底部覆蓋在所述中轉(zhuǎn)腔室的頂部上，所述中轉(zhuǎn)腔室內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)隔板，兩個(gè)所述隔板將所述中轉(zhuǎn)腔室沿第二方向分割成第一腔室、第二腔室以及第三腔室，所述進(jìn)氣通道和所述第一腔室連通，所述出氣通道和所述第三腔室連通，所述第一腔室的底部設(shè)置有進(jìn)氣主孔，所述第三腔室的底部設(shè)置有出氣主孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，兩個(gè)所述隔板設(shè)置在所述進(jìn)氣通道及出氣通道之間，所述進(jìn)氣主孔設(shè)置在所述進(jìn)氣通道和同側(cè)的所述隔板之間，所述出氣主孔設(shè)置在所述出氣通道和同側(cè)的所述隔板之間，所述進(jìn)氣主孔和所述出氣主孔以所述反應(yīng)腔室的底部的第一方向的中心線(xiàn)相對(duì)設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，所述中轉(zhuǎn)腔室的底部設(shè)置有兩個(gè)相對(duì)的凸起；

所述中轉(zhuǎn)腔室的底部和所述真空腔室的底部之間設(shè)置有兩個(gè)相對(duì)的連接塊，所述連接塊頂部設(shè)置有定位槽，所述凸起固定嵌設(shè)在對(duì)應(yīng)的所述連接塊的定位槽中。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的ALD反應(yīng)器，其特征在于，兩個(gè)所述凸起分別設(shè)置在所述進(jìn)氣主孔和所述出氣主孔的底部；

所述加工設(shè)備還包括進(jìn)氣管和出氣管，其中：

所述進(jìn)氣管的一端依次穿過(guò)所述真空腔室的底部、位于所述進(jìn)氣主孔底部的所述連接塊以及所述凸起，所述進(jìn)氣管的一端與所述進(jìn)氣主孔連通，所述進(jìn)氣管的另一端用于與進(jìn)氣裝置連通；

所述出氣管的一端依次穿過(guò)所述真空腔室的底部、位于所述出氣主孔底部的所述連接塊以及所述凸起，所述出氣管的一端與所述出氣主孔連通，所述出氣管的另一端用于與出氣裝置連通。