[發(fā)明專利]一種ALD加熱組件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011411046.4
• 申請日: 2020-12-03
• 公開（公告）號: CN112359346A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 萬軍;廖海濤;王斌;王輝
• 申請（專利權(quán)）人: 無錫市邑晶半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種ALD加熱組件，所述加熱組件適用于對反應(yīng)器的加熱，其特征在于，所述反應(yīng)器包括真空腔室以及反應(yīng)腔室，所述反應(yīng)腔室內(nèi)置于所述真空腔室內(nèi)，所述反應(yīng)腔室頂部敞口，所述反應(yīng)腔室的頂部通過封蓋密封；所述加熱組件包括：

第一加熱器，所述第一加熱器設(shè)置在所述封蓋的頂部上，所述第一加熱器的輸出端作用在所述封蓋上；

第二加熱器，所述第二加熱器設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的外側(cè)壁和所述真空腔室的內(nèi)側(cè)壁之間，所述第二加熱器的輸出端作用在所述反應(yīng)腔室的側(cè)壁上；

第三加熱器，所述第三加熱器設(shè)置在所述反應(yīng)腔室的底部和所述真空腔室的底部之間，所述第三加熱器作用在所述反應(yīng)腔室的底部上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述封蓋的頂部固定設(shè)置有第一安裝板，所述第一加熱器包括多個第一加熱絲，多個所述第一加熱絲呈同心波紋設(shè)置，多個所述第一加熱絲均固定在所述第一安裝板的底面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述第一安裝板的外沿向下折彎，形成第一限位擋邊。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述加熱組件還包括第一熱反射組件，所述第一熱反射組件固定設(shè)置在所述第一安裝板的頂面上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述第一安裝板的頂面上設(shè)置有固定塊，所述第一熱反射組件設(shè)置在所述第一安裝板和所述固定塊之間；

所述第一熱反射組件包括若干依次設(shè)置的熱反射板，相鄰的兩個所述熱反射板的接觸形式為多點(diǎn)接觸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述反應(yīng)腔室的外側(cè)壁和所述真空腔室的內(nèi)側(cè)壁之間設(shè)置有第二安裝板，所述第二安裝板周面兩端為閉環(huán)，所述第二安裝板固定設(shè)置在所述真空腔室的底部的頂面上，所述第二加熱器包括多個第二加熱絲，每個所述第二加熱絲均呈同軸的環(huán)狀設(shè)置，每個所述第二加熱絲沿豎向固定設(shè)置在所述第二安裝板的內(nèi)側(cè)壁上，每個所述第二加熱絲均套裝在所述反應(yīng)腔室的外側(cè)壁上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述第二安裝板的兩端均向內(nèi)側(cè)翻邊，形成第二限位擋邊。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述加熱組件還包括第二熱反射組件，所述第二熱反射組件固定設(shè)置在所述第二安裝板的外側(cè)面上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述加熱組件還包括第三安裝板，所述第三安裝板固定設(shè)置在所述第二安裝板和所述真空腔室的內(nèi)壁之間，所述第三安裝板呈閉環(huán)，所述第二熱反射組件設(shè)置在所述第三安裝板和所述第二安裝板之間；

所述第二熱反射組件包括若干依次設(shè)置的熱反射板，相鄰的兩個所述熱反射板的接觸形式為多點(diǎn)接觸。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述真空腔室的底部的頂面上設(shè)置有環(huán)狀凹槽，所述第三安裝板以及所述第二熱反射組件均固定設(shè)置在所述環(huán)狀凹槽中。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述加熱組件還包括第三熱發(fā)射組件，所述第三熱反射組件固定設(shè)置在所述第三安裝板的外側(cè)面上；

所述第三熱反射組件包括若干依次設(shè)置的熱反射板，相鄰的兩個所述熱反射板的接觸形式為多點(diǎn)接觸。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述反應(yīng)腔室的底部和所述真空腔室的底部之間設(shè)置有第四安裝板，所述第三加熱器包括多個第三加熱絲，多個所述第三加熱絲呈同心波紋設(shè)置，多個所述第三加熱絲均固定在所述第四安裝板的頂面上。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述第四安裝板的外沿向上折彎，形成第三限位擋邊。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的ALD加熱組件，其特征在于，所述加熱組件還包括第四熱反射組件，所述第四熱反射組件固定設(shè)置在所述第四安裝板的底面上；

所述第四熱反射組件包括若干依次設(shè)置的熱反射板，相鄰的兩個所述熱反射板的接觸形式為多點(diǎn)接觸。