[發(fā)明專利]一種α,β-不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化催化劑及其制備方法和應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011405612.0 | 申請日: | 2020-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN112536038B | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳東方;張金鑫 | 申請(專利權(quán))人: | 東南大學 |
| 主分類號: | B01J23/83 | 分類號: | B01J23/83;B01J23/62;B01J23/847;B01J23/44;C07D307/44;C07D307/42;C07C29/141;C07C33/32;C07C33/02 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 楊曉莉 |
| 地址: | 211102 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 不飽和 選擇性 加氫 轉(zhuǎn)化 催化劑 及其 制備 方法 應用 | ||
本發(fā)明公開了一種α,β?不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化催化劑及其制備方法和應用,該催化劑由金屬M為核、多孔二氧化硅為殼,形成M@SiO2核殼結(jié)構(gòu)后,再在SiO2殼層表面負載其他金屬氧化物M’O,經(jīng)還原制得M’Ox/M@SiO2催化劑。該M’Ox/M@SiO2催化劑具有核內(nèi)M、核外M’Ox兩個不同催化性質(zhì)的活性面;由于SiO2具有多孔結(jié)構(gòu),H2與α,β?不飽和醛動力學直徑相差較大,受傳質(zhì)阻力影響,H2分子進入核內(nèi)M表面進行活化解離形成H,H溢流至表面與M’Ox吸附活化的α,β?不飽和醛反應。本發(fā)明催化劑既能夠減小反應底物的競爭吸附、提高選擇性,又能減少核內(nèi)M燒結(jié)、提高催化劑穩(wěn)定性。本發(fā)明的α,β?不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化催化劑用于α,β?不飽和醛催化加氫制備不飽和醇,有效提高了α,β?不飽和醛催化轉(zhuǎn)化率和不飽和醇選擇性。
技術領域
本發(fā)明屬于工業(yè)催化劑技術,特別是涉及一種α,β-不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化催化劑及其制備方法和應用。
背景技術
α,β-不飽和醛可通過選擇性加氫得到不飽和醇、飽和醛以及飽和醇。其中,不飽和醇是農(nóng)藥、香料、醫(yī)藥、樹脂及其它精細化工產(chǎn)品生產(chǎn)過程中的重要原料。然而,由于C=O鍵較C=C鍵的鍵能大,α,β-不飽和醛的選擇性加氫反應在熱力學和動力學上有利于C=C鍵加氫而非C=O鍵的加氫。因此,提高C=O鍵的加氫選擇性得到不飽和醇,一直是基礎研究和工業(yè)應用中的巨大挑戰(zhàn)。
貴金屬Pt、Pd、Ru、Rh及非貴金屬Ni、Cu、Co等表現(xiàn)出很高的固有加氫活性,在催化α,β-不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化過程中,α,β-不飽和醛和H2在金屬表面同時活化,不僅存在反應底物競爭吸附問題,還伴隨過度氫化現(xiàn)象,導致α,β-不飽和醛的轉(zhuǎn)化率及不飽和醇的選擇性降低。然而,金屬氧化物較金屬單質(zhì)更具耐浸出性,經(jīng)部分還原能夠產(chǎn)生氧空位的金屬氧化物,其氧空位提供僅活化α,β-不飽和醛中C=O的活性位點,從而提高不飽和醇的選擇性。
針對傳統(tǒng)負載型催化劑易燒結(jié)問題,核殼結(jié)構(gòu)具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性。SiO2具有高熱力學穩(wěn)定性、高比表面積、孔徑可調(diào)性和易于合成等優(yōu)點被廣泛用作核殼結(jié)構(gòu)催化劑的外殼。此外,理論研究表明,H2分子傾向于在空腔內(nèi)富集,從而能夠提高催化性能。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:針對常規(guī)負載型選擇性催化加氫催化劑存在反應底物競爭吸附、對目標產(chǎn)物選擇性差、工作條件下活性組分易浸出導致催化劑失活等問題,本發(fā)明提供一種α,β-不飽和醛選擇性加氫轉(zhuǎn)化催化劑,并提供了該催化劑的制備方法;另外,本發(fā)明還提供了一種該催化劑用于α,β-不飽和醛選擇性催化加氫制備不飽和醇的應用。
技術方案:本發(fā)明所述的一種α,β-不飽和醛選擇性催化加氫轉(zhuǎn)化催化劑,該催化劑由金屬M為核、多孔二氧化硅為殼,形成M@SiO2核殼結(jié)構(gòu)之后,再在SiO2殼層表面負載其他金屬氧化物M’O,并經(jīng)還原而制得的雙活性面M’Ox/M@SiO2催化劑。
其中,核金屬M選自Pt、Pd、Ru、Rh、Cu、Ni、Co,平均粒徑為5~12nm;殼層SiO2呈球形、分散均勻,平均孔徑為0.5~5.0nm,厚度為30~100nm;負載金屬氧化物M’O選自CeO2、In2O3、TiO2、V2O5、Ta2O5。進一步的,金屬M的質(zhì)量分數(shù)為2~16wt%,SiO2的質(zhì)量分數(shù)為70~95wt%,M’O的質(zhì)量分數(shù)為2~16wt%。
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