[發明專利]小型化波導轉微帶耦合裝置及實現方法有效
| 申請號: | 202011403327.5 | 申請日: | 2020-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN112201917B | 公開(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發明(設計)人: | 商桂川 | 申請(專利權)人: | 四川斯艾普電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01P11/00 | 分類號: | H01P11/00;H01P5/16;H01P5/08 |
| 代理公司: | 成都誠中致達專利代理有限公司 51280 | 代理人: | 曹宇杰 |
| 地址: | 610000 四川省成都市成華區*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 小型化 波導 微帶 耦合 裝置 實現 方法 | ||
1.小型化波導轉微帶耦合裝置的實現方法,其特征在于,包括步驟:
S1:組裝微帶基片(3),包括:
提供一接地覆銅層(31),并在其上設置兩處未覆銅區域(30),兩處未覆銅區域(30)具有預定間距;
在接地覆銅層(31)上組裝介質基片層(32);
在介質基片層(32)上組裝金屬導帶層(33),兩處未覆銅區域(30)分別位于金屬導帶層(33)長度方向兩側,組裝的金屬導帶層(33)用于實現微波信號從兩處未覆銅區域(30)傳輸至金屬導帶層(33)中;
S2:將微帶基片(3)的金屬導帶層(33)置于一空氣腔(2)中,形成空氣微帶線結構,將金屬導帶層(33)長度方向一端設置為微帶耦合端口(42),另一端設置為微帶隔離端口(41);
S3:將微帶基片(3)的接地覆銅層(31)貼于一波導腔(1)窄面,與波導腔(1)形成一體結構,使金屬導帶層(33)長度方向與波導腔(1)長度方向垂直,在波導腔(1)長度方向一端設置輸入波導端口(11)、另一端設置輸出波導端口(12)。
2.根據權利要求1所述的小型化波導轉微帶耦合裝置的實現方法,其特征在于,金屬導帶層(33)采用50Ω阻抗的微帶線。
3.根據權利要求1所述的小型化波導轉微帶耦合裝置的實現方法,其特征在于,波導腔(1)的E面一側加工為通槽,微帶基片(3)燒結于該通槽中。
4.根據權利要求1所述的小型化波導轉微帶耦合裝置的實現方法,其特征在于,兩處未覆銅區域(30)具有的預定間距根據需要的功率分配比例調節。
5.小型化波導轉微帶耦合裝置,其特征在于,包括:
波導腔(1),其長度方向一端有輸入波導端口(11)、另一端有輸出波導端口(12);
微帶基片(3),包括:
接地覆銅層(31),其上設置兩處未覆銅區域(30),兩處未覆銅區域(30)具有預定間距;
介質基片層(32),組裝于接地覆銅層(31)上;
金屬導帶層(33),組裝于介質基片層(32)上,兩處未覆銅區域(30)分別位于金屬導帶層(33)長度方向兩側,金屬導帶層(33)用于實現微波信號從兩處未覆銅區域(30)傳輸至金屬導帶層(33)中;
微帶基片(3)的接地覆銅層(31)貼于波導腔(1)窄面,與波導腔(1)形成一體結構;
金屬導帶層(33)容置于一空氣腔(2)中,形成空氣微帶線結構,金屬導帶層(33)長度方向一端為微帶耦合端口(42),另一端為微帶隔離端口(41);
金屬導帶層(33)長度方向與波導腔(1)長度方向垂直。
6.根據權利要求5所述的小型化波導轉微帶耦合裝置,其特征在于,金屬導帶層(33)采用50Ω阻抗的微帶線。
7.根據權利要求5所述的小型化波導轉微帶耦合裝置,其特征在于,波導腔(1)的E面一側加工為通槽,微帶基片(3)燒結于該通槽中。
8.根據權利要求5所述的小型化波導轉微帶耦合裝置,其特征在于,兩處未覆銅區域(30)具有的預定間距根據需要的功率分配比例調節。
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