[發明專利]一種建模方法有效
| 申請號: | 202011389935.5 | 申請日: | 2020-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN112541205B | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發明(設計)人: | 周育潤;柯思羽;陳冠廷;張凱翔 | 申請(專利權)人: | 泉芯集成電路制造(濟南)有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/10 | 分類號: | G06F30/10;G06F30/20 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李曉光 |
| 地址: | 250101 山東省濟南市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 建模 方法 | ||
本發明提供了一種建模方法,包括:獲取預設量測圖形;在所述預設量測圖形的周邊設計對準圖形,形成具有對準功能的中間量測圖形;基于所述中間量測圖形進行仿真;獲取仿真后圖形影像上的輪廓圖形;基于所述輪廓圖形和所述中間量測圖形上的對準圖形進行漂移校準;基于校準結果對所述預設量測圖形進行模型修正,得到目標建模圖形。該建模方法通過在預設量測圖形的周邊設計對準圖形,基于該對準圖形進行漂移校準,進而對預設量測圖形進行模型修正得到目標建模圖形,解決了現有技術中存在漂移的問題。
技術領域
本發明涉及建模設計技術領域,更具體地說,涉及一種建模方法。
背景技術
傳統的OPC(Optical Proximity Correction,光學鄰近效應校正)建模一般是采用不同長度的量尺去量測各種圖形影像上的尺寸和距離,之后去調整光學和光阻模型中的不同參數來擬合量測參數。
隨著科學技術的不斷發展,新一代的OPC建模已廣泛應用于半導體工藝中,其主要是利用圖形影像上的圖形輪廓去建模。
但是,從圖形影像中獲取圖形輪廓存在著本質上的漂移問題,雖然漂移問題在對稱圖形中有機會利用演算法去補償,但是對于不對稱圖形卻很難解決,而不對稱圖形通常是良率較低的熱點之一。
那么,如何提供一種新的建模方法,解決掉新一代OPC建模中存在的漂移問題,是本領域技術人員亟待解決的技術問題。
發明內容
有鑒于此,為解決上述問題,本發明提供一種建模方法,技術方案如下:
一種建模方法,所述建模方法包括:
獲取預設量測圖形;
在所述預設量測圖形的周邊設計對準圖形,形成具有對準功能的中間量測圖形;
基于所述中間量測圖形進行仿真;
獲取仿真后圖形影像上的輪廓圖形;
基于所述輪廓圖形和所述中間量測圖形上的對準圖形進行漂移校準;
基于校準結果對所述預設量測圖形進行模型修正,得到目標建模圖形。
可選的,在上述建模方法中,所述輪廓圖形包括:所述預設量測圖形的輪廓圖形,以及所述對準圖形的輪廓圖形。
可選的,在上述建模方法中,所述對準圖形的數量至少為一個。
可選的,在上述建模方法中,所述對準圖形的尺寸量級遠大于所述預設量測圖形的尺寸量級。
可選的,在上述建模方法中,所述對準圖形至少包括水平方向和垂直方向。
可選的,在上述建模方法中,所述對準圖形為規則圖形。
可選的,在上述建模方法中,當所述對準圖形的數量為多個時,所述對準圖形分布在所述預設量測圖形對角線的兩端。
可選的,在上述建模方法中,所述對準圖形的位置遠離所述預設量測圖形的位置。
相較于現有技術,本發明實現的有益效果為:
本發明提供的一種建模方法包括:獲取預設量測圖形;在所述預設量測圖形的周邊設計對準圖形,形成具有對準功能的中間量測圖形;基于所述中間量測圖形進行仿真;獲取仿真后圖形影像上的輪廓圖形;基于所述輪廓圖形和所述中間量測圖形上的對準圖形進行漂移校準;基于校準結果對所述預設量測圖形進行模型修正,得到目標建模圖形。該建模方法通過在預設量測圖形的周邊設計對準圖形,基于該對準圖形進行漂移校準,進而對預設量測圖形進行模型修正得到目標建模圖形,解決了現有技術中存在漂移的問題。
附圖說明
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