[發明專利]一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法

在審

• 申請號: 202011385273.4
• 申請日: 2020-12-02
• 公開（公告）號: CN112458401A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: 錢佳琪;陳小剛
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇克新型材料有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;G02B5/08
• 代理公司: 蘇州銘浩知識產權代理事務所(普通合伙) 32246
• 代理人: 張一鳴

本發明提供了一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，包括：鏡面清理、鏡面遮擋防護、鏡面蒸鍍處理，最終形成鏡面中心介質高反射膜層和鏡面外圍金屬反射膜層；具體流程是利用A1板遮擋及利用聚四氟乙烯擋片用高溫膠與鏡面粘結防護，利用乙醚及真空環境下離子束轟擊清理，分區蒸鍍形成中心介質高反射膜層和鏡面外圍金屬反射膜層，通過對現有技術的改進，該方法具有鏡面清理干凈整潔、利于薄膜成型、鏡面遮擋處理方便的優點，從而有效的解決了本發明在背景技術一項中提出的問題和不足。

技術領域

本發明涉及反射鏡薄膜制備技術領域，更具體的說，尤其涉及一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法。

背景技術

在真空環境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍，或叫真空鍍膜， 蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。

傳統的反射鏡面光學薄膜制備中，鍍膜質量較差，同時在針對反射鏡面遮擋處理中也存在一定的不足之處。

有鑒于此，針對現有的問題予以研究改良，提供一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，旨在通過該技術，達到解決問題與提高實用價值性的目的。

發明內容

本發明的目的在于提供一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，以解決上述背景技術中提出的傳統的反射鏡面光學薄膜制備中，鍍膜質量較差，同時在針對反射鏡面遮擋處理中也存在一定的不足之處的問題和不足。

為實現上述目的，本發明提供了一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，由以下具體技術手段所達成：

一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，包括：鏡面清理、鏡面遮擋防護、鏡面蒸鍍處理，最終形成鏡面中心介質高反射膜層和鏡面外圍金屬反射膜層，具體流程如下：

S1、首先將鍍件通過機械工裝進行固定，并利用A1板對外圍區域進行遮擋防護。

S2、利用乙醚溶液對鍍件反射鏡面進行擦拭清洗工作，將機械工裝連同鍍件固定至鍍膜腔體內。

S3、進行鍍件中心部分蒸鍍介質高反射膜層的蒸鍍工作，直至膜形成。

S4、將機械工裝及工件從鍍膜腔內取出，并取掉對鍍件外圍防護的A1板。

S5、將聚四氟乙烯擋片用高溫膠粘合在鍍件鏡面中心的介質高反射膜層區域上，對鏡面中的介質高反射膜層進行防護。

S6、利用乙醚溶液對鍍件反射鏡面的外圍區域進行擦拭清洗工作，保證鏡面清潔，再將機械工裝及鍍件重新裝回鍍膜腔內部，在真空環境下，進行離子束轟擊清洗。

S7、進行金屬反射膜層蒸鍍，蒸鍍物質采用鋁，蒸發速率為75nm/s，加熱溫度低于50℃，直至膜形成。

S8、鍍件外圍金屬反射膜層形成后，將鍍件連通機械工裝取出，然后將鍍件從機械工裝上取下，采用丙酮將高溫膠溶解后，取下聚四氟乙烯擋片，對鍍件鏡面殘留物進行清洗即可。

由于上述技術方案的運用，本發明與現有技術相比具有下列優點：

1、本發明一種平面反射鏡光學薄膜的制備方法，通過采用乙醚清洗及離子束轟擊的方式對反射鏡面進行清理工作，其能夠有效的去除鏡面雜質，同時鏡面結構完整、無微坑，能夠有效的提高膜附著力，有利于提高模成型的質量，同時采用了A1板遮擋防護及高溫膠粘結去四氟乙烯擋板的方式進行鏡面的防護工作，以分別蒸鍍介質高反射膜層及金屬反射膜層，其具有遮擋效果好、后期易于清理的優點，提高了鍍膜效率。

2、本發明通過對現有技術的改進，具有鏡面清理干凈整潔、利于薄膜成型、鏡面遮擋處理方便的優點，從而有效的解決了本發明在背景技術一項中提出的問題和不足。

具體實施方式

下面將對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述 的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。