[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、光學裝置以及測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011384517.7 | 申請日： | 2020-12-01 |
| 公開（公告）號： | CN113314947A | 公開（公告）日： | 2021-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 井口大介;逆井一宏 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號： | H01S5/026 | 分類號： | H01S5/026;H01S5/042;H01S5/42;G01S7/48;G01S7/481;G01S7/484;G01S7/4911;G01S17/894 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址： | 日本東京*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)光 裝置 光學 以及 測量 | ||
本發(fā)明提供一種發(fā)光裝置、光學裝置以及測量裝置，發(fā)光裝置包括：配線基板，具有第一配線層、及經(jīng)由絕緣層而與所述第一配線層鄰接的第二配線層；激光部，具有陰極電極及陽極電極，搭載于所述配線基板而受到低側(cè)驅(qū)動；以及電容元件，搭載于所述配線基板，且對所述激光部供給驅(qū)動電流，其中，與所述陰極電極連接的陰極配線、及與所述陽極電極連接的陽極配線被設(shè)在所述第一配線層，連接于基準電位的基準電位配線被設(shè)在所述第二配線層，所述第二配線層的所述基準電位配線被設(shè)在與所述陽極配線重合的區(qū)域，所述陽極配線以包圍所述電容元件的方式而設(shè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及一種發(fā)光裝置、光學裝置以及測量裝置。
背景技術(shù)
日本專利特開2008-252129號公報中記載了一種發(fā)光裝置，其具有：陶瓷基板，具有透光性；發(fā)光元件，搭載于所述陶瓷基板的表面；配線圖案，用于對所述發(fā)光元件供給電力；以及金屬化層(metalization layer)，包含具有反光性的金屬，所述金屬化層以對從所述發(fā)光元件出射的光進行反射的方式而形成在所述陶瓷基板的內(nèi)部。
發(fā)明內(nèi)容
在基于借助光的飛行時間的、所謂的飛行時間(Time of Flight，ToF)法來進行被測量物的三維形狀的測量的情況下，要求降低對激光部供給驅(qū)動電流的驅(qū)動電路的電感，縮短來自激光部的發(fā)光的上升時間。
本公開的目的在于，在包括具有第一配線層和經(jīng)由絕緣層而與第一配線層鄰接的第二配線層的配線基板、及搭載于配線基板而受到低側(cè)驅(qū)動的激光部的發(fā)光裝置中，與第一配線層的陽極配線以不包圍電容元件的方式而設(shè)的情況相比，能夠更多地利用配線間的電容成分來作為用于驅(qū)動激光部的驅(qū)動電流。
根據(jù)本公開的第一方案，提供一種發(fā)光裝置，包括：配線基板，具有第一配線層、及經(jīng)由絕緣層而與所述第一配線層鄰接的第二配線層；激光部，具有陰極電極及陽極電極，搭載于所述配線基板而受到低側(cè)驅(qū)動；以及電容元件，搭載于所述配線基板，且對所述激光部供給驅(qū)動電流，與所述陰極電極連接的陰極配線、及與所述陽極電極連接的陽極配線被設(shè)在所述第一配線層，連接于基準電位的基準電位配線被設(shè)在所述第二配線層，所述第二配線層的所述基準電位配線被設(shè)在與所述陽極配線重合的區(qū)域，所述陽極配線以包圍所述電容元件的方式而設(shè)。
根據(jù)本公開的第二方案，所述發(fā)光裝置具有多個所述電容元件，所述陽極配線以包圍多個所述電容元件的方式而設(shè)。
根據(jù)本公開的第三方案，所述陽極配線具有所述配線基板的面積的50％以上的面積。
根據(jù)本公開的第四方案，所述陽極配線具有所述配線基板的面積的75％以上的面積。
根據(jù)本公開的第五方案，所述絕緣層的厚度為100μm以下。
根據(jù)本公開的第六方案，所述激光部是在共同的半導體基板上形成有多個面發(fā)光激光元件的面發(fā)光激光元件陣列。
根據(jù)本公開的第七方案，所述發(fā)光裝置具有使從所述激光部出射的光的方向及擴展角中的至少一者發(fā)生變化的光學構(gòu)件。
根據(jù)本公開的第八方案，提供一種光學裝置，包括：所述發(fā)光裝置；以及受光部，接收從所述發(fā)光裝置所包括的激光部出射并由被測量物予以反射的反射光，所述受光部輸出一信號，所述信號相當于光從自所述激光部出射直至被所述受光部接收為止的時間。
根據(jù)本公開的第九方案，提供一種測量裝置，包括：所述光學裝置；以及三維形狀確定部，基于從所述光學裝置所包括的激光部出射并由所述光學裝置所包括的受光部所接收的、來自被測量物的反射光，來確定所述被測量物的三維形狀，所述測量裝置對所述被測量物的三維形狀進行測量。
(效果)
根據(jù)所述第一方案，與第一配線層的陽極配線以不包圍電容元件的方式而設(shè)的情況相比，能夠更多地利用配線間的電容成分來作為用于驅(qū)動激光部的驅(qū)動電流。
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