[發明專利]一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置

在審

• 申請號: 202011373062.9
• 申請日: 2020-11-30
• 公開（公告）號: CN112359326A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 張朱鋒;管家月;謝斌平
• 申請（專利權）人: 費勉儀器科技（南京）有限公司;費勉儀器科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/54
• 代理公司: 南京瑞華騰知識產權代理事務所(普通合伙) 32368
• 代理人: 梁金娟

1.一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：包括用于與腔體連接的真空法蘭(2)，所述真空法蘭(2)的一側設置有多個熱電偶饋通(1)，所述真空法蘭(2)的另一側通過支撐桿(3)固定有支撐圓盤(5)，所述支撐圓盤(5)的上方固定有中空的外筒(4)，且外筒(4)的兩端均設置為開口；

所述外筒(4)的內壁設置有下溫區加熱組件(7)和上溫區加熱組件(8)，所述上溫區加熱組件(8)和下溫區加熱組件(7)均包括多個固定片(81)、設置在固定板(81)上的方槽(83)以及插接在方槽(83)內的加熱片(82)；

所述外筒(4)的內部設置有坩堝(9)，且下溫區加熱組件(7)和上溫區加熱組件(8)分別位于坩堝(9)外表面的下部和上部；

所述支撐圓盤(5)的上設置有上溫區熱電偶(6)和下溫區熱電偶(10)，所述上溫區熱電偶(6)的測溫頭位于上溫區加熱組件(8)處，所述下溫區熱電偶(10)的測溫頭位于下溫區加熱組件(7)處。

2.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述固定片(81)為一體式固定片。

3.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述加熱板(82)為一個加熱片(821)連續彎曲組成。

4.根據權利要求2所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述方槽(83)的寬度不小于兩個加熱片(821)的寬度。

5.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述真空法蘭(2)設置有螺栓孔，通過螺栓將真空法蘭(2)與腔體固定連接。

6.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述熱電偶饋通(1)設置為4個，4個所述熱電偶饋通等列分布在真空法蘭的一側(2)。

7.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述坩堝(9)的頂部設置為向外延伸的圓環，且圓環直徑的不小于固定片(81)的直徑。

8.根據權利要求1所述的一種高穩定性雙溫區大容積爐源裝置，其特征在于：所述下溫區加熱組件(7)和上溫區加熱組件(8)結構相同，且上溫區加熱組件(8)的直徑大于下溫區加熱組件(7)的直徑。