[發明專利]DUV厚膜光刻膠樹脂及其制備方法和涂覆基材

有效

• 申請號: 202011367547.7
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112346301B
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 王溯;方書農;耿志月;崔中越;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;張君;王大鵬
• 申請（專利權）人: 上海新陽半導體材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 王衛彬;陳卓

1.一種涂覆基材，其包含基材和形成在基材表面上的光刻膠組合物層，其特征在于，所述的光刻膠組合物層中的光刻膠組合物包含以下組分：光致產酸劑、樹脂和溶劑；

所述的光致產酸劑為PAG1和/或PAG2，其結構如下所示：

所述的樹脂通過以下制備方法制得，所述的樹脂的制備方法包括以下步驟：

在過氧苯甲酰存在下，將如式A所示的單體、如式B所示的單體、如式C所示的單體、如式D所示的單體和如式E所示的單體在乙酸乙酯中進行聚合反應，得到所述的樹脂；其中，所述的如式D所示的單體以重量份數計的份數為1-10份，所述的如式E所示的單體以重量份數計的份數為1-10份；

所述的聚合反應的溫度為75-80℃；

式A中，R¹為R^1a取代的5-10元的雜環烷基或-CH₂(C＝O)OR^1b；

R^1b為R^1b-1取代的5-10元的雜環烷基；

R^1a和R^1b-1獨立地為氧代、氰基或C_1-4的烷基；

所述的R^1a取代的5-10元的雜環烷基和所述的R^1b-1取代的5-10元的雜環烷基中的雜原子為O，個數為1個或2個；

式B中，R²為

n₁為1-11中的任意整數；

R^2a和R^2b獨立地為C_1-4的烷基、羥基取代的C_1-4的烷基、苯基、R^2a-1取代的苯基、5-6元的環烷基或金剛烷基；

R^2a-1為C_1-4的烷基或C_1-4的烷氧基；

或者，R^2a和R^2b與其相連的N原子一起形成5-6元的雜環烷基或R^2b-1取代的5-6元的雜環烷基，所述的5-6元的雜環烷基和R^2b-1取代的5-6元的雜環烷基中的雜原子獨立地選自O和N，個數為1個或2個；

R^2b-1為C_1-4的烷基或氨基保護基；

式C中，為單鍵或者雙鍵；

R^3a、R^3b和R^3c獨立地為H、羥基、氰基、-(C＝O)OR^3a-1、-O(C＝O)R^3a-2、C_1-4的烷基或羥基取代的C_1-4的烷基；且R^3a、R^3b和R^3c不同時為H；

R^3a-1為H、C_1-5的烷基、

R^3a-2為C_1-4的烷基或苯基；

或者，R^3a、R^3b和R^3c中的任意兩個基團與其相連的碳原子一起形成苯基、5-7元的環烷基、5-7元的環烯基、

式D中，n₂為0或1；

R^4a和R^4b獨立地為H或C_1-4的烷基；且R^4a和R^4b不同時為H；

式E中，R⁵為H、氰基、C_1-4的烷基、R^5a取代的C_1-4的烷基或-(C＝O)OR^5b；

R^5a為羥基或乙酰基；

R^5b為C_1-4的烷基；

所述的樹脂的重均分子量為3000-20000；

所述的樹脂的聚合物分散性指數為1.2-2.5。