[發(fā)明專(zhuān)利]基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011367022.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112542529A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉建東;徐陽(yáng);郝景剛;任芳芳 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 南京新澳半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/102 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/102;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南京瑞弘專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 陳建和 |
| 地址: | 210038 江蘇省南京市經(jīng)濟(jì)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 氧化 金屬 絕緣 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) 紫外 探測(cè)器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提出一種基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器及其制備方法,包括:由鎳、金電極構(gòu)成的電極層,絕緣氧化鋁層,及氧化鎵半導(dǎo)體襯底,電極層、絕緣氧化鋁層、氧化鎵半導(dǎo)體襯底由上至下依次設(shè)置,形成金屬?絕緣層?半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。本發(fā)明在金屬?半導(dǎo)體?金屬的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,通過(guò)加入一層絕緣氧化鋁層形成金屬?絕緣層?半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),降低暗電流和減小內(nèi)部光致發(fā)射,從而提高光暗電流抑制比。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及日盲紫外探測(cè)器領(lǐng)域,尤其涉及一種基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器及其制備方法。
背景技術(shù)
由于大氣層中臭氧的強(qiáng)吸收及散射作用,太陽(yáng)光中波長(zhǎng)小于280nm的部分幾乎無(wú)法到達(dá)地球表面。因此紫外日盲探測(cè)器受自然光影響很小,其在監(jiān)視臭氧空洞、焰火探測(cè)和超高音速飛行器尾焰探測(cè)及追蹤等諸多領(lǐng)域具有極大的商業(yè)和軍事應(yīng)用價(jià)值?,F(xiàn)有的紫外探測(cè)器一般由硅制成,但由于硅的禁帶寬度為1.1eV,為了達(dá)到更好的探測(cè)效果,需要借助日盲濾波片,因而增加了成本。
氧化鎵作為一種超寬禁帶的半導(dǎo)體,其禁帶寬度達(dá)到了4.9eV,理論截止波長(zhǎng)約為254nm,處于UVC日盲波段,是用于制備紫外日盲探測(cè)器的天然優(yōu)選材料。目前常見(jiàn)的氧化鎵探測(cè)器均是金屬-半導(dǎo)體-金屬的結(jié)構(gòu),電極接觸為肖特基接觸,例如,專(zhuān)利2019107326175提出的基于非晶氧化鎵薄膜的日盲紫外探測(cè)器及其制備方法,該專(zhuān)利公開(kāi)了一種日盲紫外探測(cè)器,該探測(cè)器以高分子(如PET、聚酰亞胺)薄膜或織物為柔性襯底,使用超寬禁帶半導(dǎo)體氧化鎵(Ga2O3)(半導(dǎo)體層)為光探測(cè)材料,使用金屬或氮化鈦(TiN)半導(dǎo)體作為電極材料,通過(guò)光刻、刻蝕和薄膜沉積等半導(dǎo)體工藝制備肖特基接觸電極層,形成金屬電極-半導(dǎo)體層-金屬電極(MSM)結(jié)構(gòu)探測(cè)器,可實(shí)現(xiàn)對(duì)波長(zhǎng)小于280nm的日盲紫外光的有效探測(cè)。
但是,上述專(zhuān)利具有以下缺陷:
上述專(zhuān)利中電極接觸為肖特基接觸,而肖特基接觸常常伴隨著缺陷輔助隧穿,暗電流偏大;同時(shí)電極的內(nèi)部光致發(fā)射的存在,即電極吸收了能量小于氧化鎵禁帶寬度的光子,產(chǎn)生了光生電子并漂移、躍遷過(guò)勢(shì)壘進(jìn)入半導(dǎo)體內(nèi)部并形成光生電流,使得探測(cè)器在長(zhǎng)波部分有響應(yīng),降低了紫外/可見(jiàn)抑制比。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:本發(fā)明旨在針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足,提出一種基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器及其制備方法,在金屬-半導(dǎo)體-金屬的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,通過(guò)加入一層絕緣層形成金屬-絕緣層-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),降低暗電流和減小內(nèi)部光致發(fā)射,從而提高光暗電流抑制比。
技術(shù)方案:為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出的技術(shù)方案如下:
基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器,包括:由鎳、金電極構(gòu)成的電極層,絕緣氧化鋁層,及氧化鎵半導(dǎo)體襯底,電極層、絕緣氧化鋁層、氧化鎵半導(dǎo)體襯底由上至下依次設(shè)置,形成金屬-絕緣層-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明在電極和氧化鎵半導(dǎo)體襯底之間引入絕緣氧化鋁層,氧化鋁的禁帶寬度為9.0eV,高于氧化鎵,因此不會(huì)吸收可見(jiàn)光,降低了金屬電極吸收光產(chǎn)生的光生電子隧穿進(jìn)入半導(dǎo)體內(nèi)部的概率,從而提高日盲探測(cè)器的紫外/可見(jiàn)抑制比,另一方面,氧化鋁層的存在使電子所需躍過(guò)的勢(shì)壘增大,也減小了在肖特基接觸里存在的缺陷輔助的隧穿導(dǎo)致的電流,減小了暗電流,因此,這種結(jié)構(gòu)的探測(cè)器紫外/可見(jiàn)抑制比高于傳統(tǒng)的金屬-半導(dǎo)體-金屬結(jié)構(gòu)的探測(cè)器。
針對(duì)上述基于氧化鎵的金屬絕緣層半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)日盲紫外探測(cè)器,以下還提供了若干可選方式,但并不作為對(duì)上述總體方案的額外限定,僅僅是進(jìn)一步的增補(bǔ)或優(yōu)選,在沒(méi)有技術(shù)或邏輯矛盾的前提下,各可選方式可單獨(dú)針對(duì)上述總體方案進(jìn)行組合,還可以是多個(gè)可選方式之間進(jìn)行組合。
可選的,所述鎳、金電極為叉指電極。
可選的,所述絕緣氧化鋁層的厚度為2-5nm。
可選的,所述氧化鎵半導(dǎo)體襯底為氧化鎵單晶或外延片。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





