[發明專利]二維材料化學沉積冷卻系統

在審

• 申請號: 202011362062.9
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112481605A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 于葛亮;康斯坦丁·諾沃舍洛夫;楊金東;孫正乾;唐陽;王楊華
• 申請（專利權）人: 無錫費曼科技有限公司;無錫墨諾半導體科技有限公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/52
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 曹祖良;涂三民

本發明涉及一種二維材料化學沉積冷卻系統，它包括制冷機、加熱模塊固定板、冷卻盤孔、加熱模塊、熱傳感器、第一三通、第二三通、冷卻介質輸出主管、冷卻介質輸入主管、冷卻盤管、冷卻介質輸入支管與冷卻介質輸出支管。本發明能對加熱模塊固定板進行有效冷卻，避免了由于加熱模塊固定板溫度過高而導致機械結構發生變形，保證了二維材料化學沉積過程的正常運行。

技術領域

本發明涉及二維材料化學沉積技術領域，具體地說是一種二維材料化學沉積冷卻系統。

背景技術

由于CVD爐體在氣相沉積過程中溫度太高，會引起垂直布置的加熱模塊固定板溫度過高而導致機械結構發生變形，導致個機械部件不能正常運行，最終會影響CVD系統生長。

發明內容

本發明的目的是克服現有技術中存在的不足，提供一種結構簡單且能對加熱模塊固定板進行有效冷卻的二維材料化學沉積冷卻系統。

按照本發明提供的技術方案，所述二維材料化學沉積冷卻系統，包括制冷機、加熱模塊固定板、冷卻盤孔、加熱模塊、熱傳感器、第一三通、第二三通、冷卻介質輸出主管、冷卻介質輸入主管、冷卻盤管、冷卻介質輸入支管與冷卻介質輸出支管；

所述加熱模塊固定板呈豎直設置，在加熱模塊固定板的外側設有制冷機，制冷機內設有冷卻介質，在加熱模塊固定板的正面固定有加熱模塊，在加熱模塊固定板上安裝有熱傳感器，熱傳感器與制冷機相連，在加熱模塊固定板的背面設有冷卻盤管，在加熱模塊固定板內設有冷卻盤孔；

所述制冷機的出口與冷卻介質輸出主管的進口相接，冷卻介質輸出主管的出口與第一三通的進口相接，第一三通的第一出口與冷卻盤管的進口相接，冷卻盤管的出口與第二三通的第一進口相接；

第一三通的第二出口與冷卻介質輸入支管的進口相接，冷卻介質輸入支管的出口與冷卻盤孔的進口相接，冷卻盤孔的出口與冷卻介質輸出支管的進口相接，冷卻介質輸出支管的出口與第二三通的第二進口相接；

第二三通的出口與冷卻介質輸入主管的進口相接，冷卻介質輸入主管的出口與制冷機的進口相接。

作為優選，在所述加熱模塊固定板的正面固定有兩個或者兩個以上的加熱模塊。

作為優選，所述冷卻介質為氣態冷卻介質或者液態冷卻介質。

作為優選，所述冷卻盤孔的進口設置在上方、其出口設置在下方。

作為優選，所述冷卻盤管的進口設置在上方、其出口設置在下方。

本發明能對加熱模塊固定板進行有效冷卻，避免了由于加熱模塊固定板溫度過高而導致機械結構發生變形，保證了二維材料化學沉積過程的正常運行。本發明成本低、結構簡單、制作簡單、便于加工、降溫快、安裝與拆卸模塊化且壽命長久。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明作進一步說明。

一種二維材料化學沉積冷卻系統，包括制冷機1、加熱模塊固定板2、冷卻盤孔21、加熱模塊3、熱傳感器4、第一三通5、第二三通6、冷卻介質輸出主管71、冷卻介質輸入主管72、冷卻盤管73、冷卻介質輸入支管74與冷卻介質輸出支管75；

所述加熱模塊固定板2呈豎直設置，在加熱模塊固定板2的外側設有制冷機1，制冷機1內設有冷卻介質，在加熱模塊固定板2的正面固定有加熱模塊3，在加熱模塊固定板2上安裝有熱傳感器4，熱傳感器4與制冷機1相連，在加熱模塊固定板2的背面設有冷卻盤管73，在加熱模塊固定板2內設有冷卻盤孔21；

所述制冷機1的出口與冷卻介質輸出主管71的進口相接，冷卻介質輸出主管71的出口與第一三通5的進口相接，第一三通5的第一出口與冷卻盤管73的進口相接，冷卻盤管73的出口與第二三通6的第一進口相接；