[發明專利]二維材料化學沉積冷卻系統在審
| 申請號: | 202011362062.9 | 申請日: | 2020-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN112481605A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發明(設計)人: | 于葛亮;康斯坦丁·諾沃舍洛夫;楊金東;孫正乾;唐陽;王楊華 | 申請(專利權)人: | 無錫費曼科技有限公司;無錫墨諾半導體科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/52 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;涂三民 |
| 地址: | 214174 江蘇省無錫市惠*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 二維 材料 化學 沉積 冷卻系統 | ||
1.一種二維材料化學沉積冷卻系統,包括制冷機(1)、加熱模塊固定板(2)、冷卻盤孔(21)、加熱模塊(3)、熱傳感器(4)、第一三通(5)、第二三通(6)、冷卻介質輸出主管(71)、冷卻介質輸入主管(72)、冷卻盤管(73)、冷卻介質輸入支管(74)與冷卻介質輸出支管(75);
其特征是:所述加熱模塊固定板(2)呈豎直設置,在加熱模塊固定板(2)的外側設有制冷機(1),制冷機(1)內設有冷卻介質,在加熱模塊固定板(2)的正面固定有加熱模塊(3),在加熱模塊固定板(2)上安裝有熱傳感器(4),熱傳感器(4)與制冷機(1)相連,在加熱模塊固定板(2)的背面設有冷卻盤管(73),在加熱模塊固定板(2)內設有冷卻盤孔(21);
所述制冷機(1)的出口與冷卻介質輸出主管(71)的進口相接,冷卻介質輸出主管(71)的出口與第一三通(5)的進口相接,第一三通(5)的第一出口與冷卻盤管(73)的進口相接,冷卻盤管(73)的出口與第二三通(6)的第一進口相接;
第一三通(5)的第二出口與冷卻介質輸入支管(74)的進口相接,冷卻介質輸入支管(74)的出口與冷卻盤孔(21)的進口相接,冷卻盤孔(21)的出口與冷卻介質輸出支管(75)的進口相接,冷卻介質輸出支管(75)的出口與第二三通(6)的第二進口相接;
第二三通(6)的出口與冷卻介質輸入主管(72)的進口相接,冷卻介質輸入主管(72)的出口與制冷機(1)的進口相接。
2.根據權利要求1所述的二維材料化學沉積冷卻系統,其特征是:在所述加熱模塊固定板(2)的正面固定有兩個或者兩個以上的加熱模塊(3)。
3.根據權利要求1所述的二維材料化學沉積冷卻系統,其特征是:所述冷卻介質為氣態冷卻介質或者液態冷卻介質。
4.根據權利要求1所述的二維材料化學沉積冷卻系統,其特征是:所述冷卻盤孔(21)的進口設置在上方、其出口設置在下方。
5.根據權利要求1所述的二維材料化學沉積冷卻系統,其特征是:所述冷卻盤管(73)的進口設置在上方、其出口設置在下方。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





