[發明專利]一種KrF厚膜光刻膠添加劑及含其的光刻膠組合物在審
| 申請號： | 202011360612.3 | 申請日： | 2020-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN112485963A | 公開（公告）日： | 2021-03-12 |
| 發明（設計）人： | 王溯;方書農;耿志月;崔中越;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;張君;霍靜靜 | 申請（專利權）人： | 上海新陽半導體材料股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;H01L21/027;C07F9/53 |
| 代理公司： | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人： | 王衛彬;陳卓 |
| 地址： | 201616 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 krf 光刻 添加劑 組合 | ||
1.一種光刻膠組合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包括：等離子體光吸收劑、光致生酸劑、光敏聚合物和有機溶劑；其中，所述等離子體光吸收劑為式(I)所示的酰基膦氧化合物，
其中，m為1或2；
X為氧或硫；
R1和R3分別獨立地為C1-4烷基、苯基、-C(O)-苯基、被C1-4烷基取代的苯基、或被C1-4烷基取代的-C(O)-苯基；
R2為C1-4烷基、苯基、或被C1-4烷基取代的苯基；
且R1、R2和R3不同時為C1-4烷基。
2.如權利要求1所述的光刻膠組合物，其特征在于，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，m、R1、R2和R3如(a)-(e)中的一種所定義：
(a)m為1，R1和R3為苯基，R2為被C1-4烷基取代的苯基；
(b)m為1，R1和R3其中一個為苯基，另一個為被C1-4烷基取代的-C(O)-苯基，R2為C1-4烷基；
(c)m為2，R1為苯基，R2為被C1-4烷基取代的苯基，R3不存在；
(d)m為2，R1為被C1-4烷基取代的-C(O)-苯基，R2為被C1-4烷基取代的苯基，R3不存在；或
(e)m為2，R1為苯基；R2為C1-4烷基，R3不存在。
3.如權利要求1或2所述的光刻膠組合物，其特征在于，
所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，X為氧；
和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R1、R2和R3中所述的C1-4烷基為叔丁基；
和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R1、R2和R3中所述的被C1-4烷基取代的苯基為例如，
和/或，所述式(I)所示的酰基膦氧化合物中，R1和R3中所述的被C1-4烷基取代的-C(O)-苯基為
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海新陽半導體材料股份有限公司，未經上海新陽半導體材料股份有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011360612.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
