[發明專利]磁共振測量裝置

在審

• 申請號: 202011355134.7
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112881956A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: S·勒爾;R·奧登巴赫
• 申請（專利權）人: 尼奧斯堪解決方案有限公司
• 主分類號: G01R33/20
• 分類號: G01R33/20;G01R33/28
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張立國

本發明涉及一種磁共振測量裝置(3)，其包括具有產生雜散磁場的主磁體(4)的磁共振儀器(2)并包括具有側向的邊緣(5)的基座(1)，磁共振儀器(2)存放在基座上。本發明的特征在于，所述邊緣(5)標識雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面。因此，基座(1)形成自然的屏障，該屏障防止人員或物體經受過高的磁場強度。為此目的，按照本發明還規定應用臺階部(15)來標識磁共振儀器(2)的雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面。本發明還涉及一種用于確定基座(1)的邊緣(5)的方法以及一種借助該方法制造的基座(1)。

技術領域

本發明涉及一種MR測量裝置，該MR測量裝置包括具有產生雜散磁場的主磁體的MR儀器并且包括具有側向的邊緣(Umrandung)的基座，MR儀器存放在該基座上。

這種MR測量裝置在實際中已知并且用于存放MR儀器。在此，所述基座可以用于平衡不平的地面或者也可以用于使MR儀器的重量均勻地分布在地面上。也就是說，地面通常不適合用于直接存放通常重于一噸的MR儀器。

本發明還涉及臺階部的以接下來還要更詳細描述的方式的應用。

本發明還涉及一種用于確定用于MR儀器的基座的邊緣的方法。

本發明此外涉及一種借助之前提及的方法制造的基座。

在本發明的范圍內，術語“磁共振”縮寫成“MR”。

背景技術

MR儀器例如可以是MR-X光斷層照相裝置或MR-光譜儀。

每個MR儀器具有一個主磁體，該主磁體產生磁場，以便借此使MR活性原子的核自旋、例如氫原子的核自旋定向。主磁體通常由載流的磁線圈組成。所述磁線圈通常由超導材料制成并且因此通常被強烈地冷卻。

在通過主磁體產生磁場時也產生不期望的雜散磁場，所述雜散磁場在主磁體之外隨著距離增加而下降。所述雜散磁場對人和磁性物體構成危險，從而對此需要控制雜散磁場的影響。

安全規章在此通常遵循所謂的5高斯線、即雜散磁場在5高斯的場強度處的等輪廓面

術語“線”是不準確的，因為在此實際上涉及三維的空間表面。因此，以下談及特定場強度的等輪廓面，例如5高斯的等輪廓面。

特定場強度的等輪廓面的幾何形狀對于不同的MR儀器來說是不同的并且因此構成每個MR儀器的個體特性，其一方面取決于主磁體并且另一方面取決于可能的屏蔽。然而，具有相同結構的MR儀器也產生相同成形的磁場。

為了降低由雜散磁場引起的危險，已知向外屏蔽由主磁場產生的磁場。這可以通過被動屏蔽來實現，其方式為在主磁體之外布置磁性材料。例如，屏蔽也可以集成于MR儀器所存放的空間的空間飾板中。然而，所述屏蔽通常主動地通過載流的超導線圈實現，該超導線圈在很大程度上抵消雜散磁場。

然而盡管存在屏蔽，但仍遺留有剩余雜散磁場，該剩余雜散磁場雖然由于屏蔽隨著距離增大而更快地下降，但在MR儀器附近仍然常常超過安全相關的場強度。尤其是，5高斯等輪廓面往往位于MR儀器的殼體之外，使得盡管存在屏蔽但仍然遺留有危險。

在現有技術中已知的是，在地面上以與MR儀器相距的被視為安全的距離安置有以帶或類似形式的標記。然而這些標記常常未指明并且此外可能被無意地超過。

發明內容

在此背景下，本發明所基于的任務是，消除或至少降低來源于由MR儀器的主磁體產生的雜散磁場的危險。

為了解決所述任務，按照本發明設有權利要求1的特征。尤其是，因此為了解決所提及的任務，按照本發明在開頭提及類型的MR測量裝置中提出，所述邊緣標識和/或近似(approximiert)雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面。

備選地或附加地，按照本發明規定，所述邊緣描述(umschreibt)雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面。