[發明專利]磁共振測量裝置

在審

• 申請號: 202011355134.7
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112881956A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: S·勒爾;R·奧登巴赫
• 申請（專利權）人: 尼奧斯堪解決方案有限公司
• 主分類號: G01R33/20
• 分類號: G01R33/20;G01R33/28
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張立國

1.一種磁共振測量裝置(3)，該磁共振測量裝置包括具有產生雜散磁場的主磁體(4)的磁共振儀器(2)并且包括具有側向的邊緣(5)的基座(1)，所述磁共振儀器(2)存放在該基座上，其特征在于，所述邊緣(5)標識和/或近似所述雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面(6、18、19)。

2.一種磁共振測量裝置(3)、尤其是根據權利要求1所述的磁共振測量裝置，該磁共振測量裝置包括磁共振儀器(2)和具有側向的邊緣(5)的基座(1)，其中，所述磁共振儀器(2)具有產生雜散磁場的主磁體(4)，所述磁共振儀器(2)存放在所述基座上，其特征在于，所述邊緣(5)描述所述雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面(6、18、19)。

3.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述等輪廓面(6、18、19)通過所述雜散磁場在預定的磁場強度處的完整等值面(18)的豎直投影(6、18)來確定。

4.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述基座(1)的邊緣(5)形成臺階部(15)、尤其是形成凸肩(15)。

5.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述邊緣(5)完全環繞所述磁共振儀器(2)。

6.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，預定有場強度區間，該場強度區間的上限定義所述等輪廓面(6、18、19)，而所述場強度區間的下限定義所述雜散磁場的另一等輪廓面(6、18、19)，其中，所述邊緣(5)在這兩個等輪廓面(6、18、19)之間延伸。

7.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，預定的所述場強度區間覆蓋如下場強度范圍，該場強度范圍小于所述場強度區間的中間值的20％、優選小于10％、特別優選小于5％。

8.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述邊緣(5)在預定的磁場強度處的等輪廓面(6、18、19)上或在等輪廓面(6、18、19)的外邊緣上延伸，尤其是附加地設有安全距離(8)。

9.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述邊緣(5)位于所述雜散磁場在預定的磁場強度處的等輪廓面(6、18、19)的包絡線(16)上、尤其是凸形的包絡上，尤其是設有距包絡線(16)的安全距離(8)。

10.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述預定的磁場強度為5高斯。

11.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述基座(1)具有用于表明所述磁共振儀器(2)的存放位置的標記(17)。

12.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述基座(1)是非磁性的，所述基座尤其是由一種或多種非磁性材料制成。

13.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述基座(1)在上側構造成扁平的、尤其是平坦的，和/或所述基座(1)形成具有底部結構(10)的板件(9)，其中，所述底部結構(10)承受所述磁共振儀器(2)的重量，尤其是所述板件(9)由木材、塑料或非磁性不銹鋼制成。

14.根據前述權利要求中任一項所述的磁共振測量裝置(3)，其特征在于，所述底部結構(10)由非磁性不銹鋼制成，和/或所述底部結構(10)具有由不銹鋼制成的非磁性支撐件(11)。