[發(fā)明專利]大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011353178.6 | 申請日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN112457027B | 公開(公告)日: | 2022-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王鵬;趙兵兵;張倩;張海昇;張晰;王言;李建章 | 申請(專利權(quán))人: | 西安鑫垚陶瓷復(fù)合材料有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/10 | 分類號: | C30B15/10;C04B35/65;C04B35/71 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 汪海艷 |
| 地址: | 710117 陜西省*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 尺寸 截面 陶瓷 復(fù)合材料 構(gòu)件 熔融 工裝 方法 | ||
1.一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:用于大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件的熔融滲硅工藝過程,包括由石墨材料制成的n個(gè)坩堝單元,將n個(gè)坩堝單元分別定義為第一坩堝單元、第二坩堝單元……第n坩堝單元;所述第一坩堝單元為桶體狀,第二坩堝單元至第n坩堝單元均為環(huán)狀;其中n為大于等于2的自然數(shù);
第一坩堝單元、第二坩堝單元……第n坩堝單元依次同軸從下至上疊放,形成坩堝,坩堝空腔的形狀與大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件形狀相適配,且坩堝每一徑向截面的內(nèi)徑均大于大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件相應(yīng)徑向截面的外徑; 大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件形狀為倒錐形;
相鄰兩個(gè)坩堝單元之間鋪設(shè)環(huán)形石墨紙層,環(huán)形石墨紙層的外徑與相鄰坩堝單元的外徑相同,環(huán)形石墨紙層的內(nèi)徑與大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件外徑相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:還包括位于坩堝內(nèi)且與坩堝同軸的石墨柱,所述石墨柱為直徑小于大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件小端直徑的圓柱形柱體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:所述石墨柱的直徑與大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件小端直徑的比值為2~5:10。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:坩堝每一徑向截面的內(nèi)徑與大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件相應(yīng)徑向截面的外徑之差等于30~100mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:坩堝側(cè)壁設(shè)有與坩堝同軸的環(huán)形減重孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種大尺寸圓截面陶瓷基復(fù)合材料構(gòu)件熔融滲硅工裝,其特征在于:環(huán)形石墨紙層由3~5層環(huán)狀石墨紙疊層粘貼而成,環(huán)形石墨紙層粘貼在相鄰坩堝單元的端面。
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