[發明專利]計測裝置、計測方法和真空處理裝置在審
| 申請號： | 202011351752.4 | 申請日： | 2020-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN112928009A | 公開（公告）日： | 2021-06-08 |
| 發明（設計）人： | 澤地淳;曾根一朗;西嶋拓哉;佐藤優 | 申請（專利權）人： | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人： | 龍淳;劉芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 方法 真空 處理 | ||
1.一種計測裝置，其特征在于，包括：
殼體，其形成有具有與真空處理裝置的第二出入口對應的尺寸的開口部，能夠在所述第二出入口氣密地安裝所述開口部，其中，所述真空處理裝置在處理容器設置有用于送入送出基片的第一出入口和與第一出入口不同的所述第二出入口；
對所述殼體內部進行減壓的減壓機構；以及
收納于所述殼體內部的計測機構，其在由所述減壓機構對所述殼體內部進行了減壓的狀態下，經由所述開口部計測所述處理容器內的狀態。
2.如權利要求1所述的計測裝置，其特征在于：
所述計測機構包括：
前端能夠從所述開口部進出所述處理容器內的臂；和
設置于所述臂的前端的、計測所述處理容器內的狀態的傳感器。
3.如權利要求2所述的計測裝置，其特征在于：
所述臂可拆裝地安裝在所述殼體。
4.如權利要求2或3所述的計測裝置，其特征在于：
所述殼體包括：
在內部收納有所述計測機構的第一殼體；和
經由可開閉的開閉部件與所述第一殼體連通，并形成有所述開口部的第二殼體，
所述減壓機構在所述第二殼體的所述開口部沒有被安裝在所述第二出入口的情況下，在所述開閉部件被關閉的狀態下對所述第一殼體內部進行減壓，在所述第二殼體的所述開口部安裝于所述第二出入口的情況下，對所述第二殼體內部進行減壓，
所述臂在所述第一殼體內部和所述第二殼體內部已減壓的狀態下，在所述開閉部件和所述第二出入口被打開后，使設置有所述傳感器的前端從所述開口部進入所述處理容器內。
5.一種計測方法，其特征在于，包括：
將殼體的開口部氣密地安裝在所述第二出入口的步驟，其中，所述殼體形成有具有與真空處理裝置的第二出入口對應的尺寸的所述開口部，并在內部收納有計測處理容器內的狀態的計測機構，所述真空處理裝置在所述處理容器設置有用于送入送出基片的第一出入口和與第一出入口不同的所述第二出入口；
用減壓機構對所述殼體內部進行減壓的步驟；以及
在用所述減壓機構對所述殼體內部進行了減壓的狀態下，用所述計測機構經由所述開口部計測所述處理容器內的狀態的步驟。
6.一種真空處理裝置，其特征在于：
具有處理容器，所述處理容器設置有：用于送入送出基片的第一出入口；和第二出入口，其能夠可拆裝地安裝計測處理容器內的狀態的計測裝置。
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