[發明專利]高效去除氯硅烷水解副產氯化氫中硅氧烷的裝置及方法

有效

• 申請號: 202011349531.3
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN112441561B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 伊港;王英明;胡慶超;周磊;李升江;肖月玲
• 申請（專利權）人: 山東東岳有機硅材料股份有限公司
• 主分類號: C01B7/07
• 分類號: C01B7/07
• 代理公司: 濟南竹森知識產權代理事務所(普通合伙) 37270
• 代理人: 朱家富

本發明屬于有機硅處理設備技術領域，具體涉及一種高效去除氯硅烷水解副產氯化氫中硅氧烷的裝置及方法。包括硅氧烷去除塔，硅氧烷去除塔的底部設置有進氣口，頂部設置有出氣口，硅氧烷去除塔內部從下向上依次間隔設有第一填料層、第一氣體重整裝置、第二填料層、第二氣體重整裝置和帶電室，第一填料層的上部設有第一沖洗裝置，第二填料層的上部設有第二沖洗裝置，第一沖洗裝置與第二沖洗裝置分別與塔壁上的沖洗口連通，硅氧烷去除塔的塔底設有第一循環液進口，第一氣體重整裝置相對的塔側壁上設有第二循環液進口。本發明的裝置結構簡單、運行成本低、硅氧烷去除率高。

技術領域

本發明屬于有機硅處理設備技術領域，具體涉及一種高效去除氯硅烷水解副產氯化氫中硅氧烷的裝置及方法。

背景技術

有機硅單體-二甲基二氯硅烷通過飽和酸環路水解工藝后，產生了大量的氯化氫氣體，但該氯化氫氣流中常含有一定量的硅氧烷，在酸性介質中很不穩定，羥基之間易發生縮合反應，后期隨著聚硅氧烷的摩爾質量和黏度不斷增大進而產生粘壁現象，這些聚硅氧烷常以直徑小于5μm的霧滴形式存在，不斷積累能使得管道設備發生堵塞，從而使得開車周期縮短。現在大部分生產廠家普遍采用洗滌塔、除霧器等措施，但此種方法對含有液滴直徑20μm以上的低氣速的氣體有較好的氣液分離效果，而處理高氣速、液滴直徑5μm以下的氣體時，氣液分離效果非常差，嚴重影響氯化氫的品質以及后續工藝生產。此外，氯化氫氣流中硅氧烷的存在對設備維護和車間安全也會產生極大的危害。因此，去除氯化氫氣體中硅氧烷霧滴對有機硅企業的安全穩定生產具有非常重要的意義。

目前有很多關于氣體中去除液滴的裝置或方法報道，但目前的裝置和方法存在以下各種各樣的問題，對氯硅烷水解副產氯化氫中直徑小于5μm的霧滴去除不適用；1)只能去除濃度較高、液滴較大(直徑20μm以上)的硅氧烷，對直徑小于5μm的霧滴無法有效去除；2)工藝投資巨大，對設備的要求相當高，能耗較大；3)需要頻繁的停機進行清洗，達不到化工生產中連續的要求。

如中國專利CN206535385U公開了一種兩段式脫除生物質氣中硅氧烷的裝置；包括前處理系統、第一段生物質氣凈化系統和第二段生物質氣凈化系統；是將攜帶有固相和液相雜質的生物質氣依此通入網式過濾器和氣液兩相立式分離器，去除生物質氣中的水、泡沫及固體顆粒；得到的生物質氣通入裝有甲基二乙醇胺溶液的吸收罐，去除生物質氣中的硫化氫；然后加壓通入吸收塔，進入第一和第二段生物質氣凈化工藝，存儲甲烷氣體。該裝置是用于去除生物質氣中的硅氧烷，對氯硅烷水解副產氯化氫中的硅氧烷無法去除。

如中國專利CN203842472U公開了一種新型的采用濕式電除霧器的煙氣洗滌系統，一個預洗滌噴淋塔，預洗滌噴淋塔底部為預洗滌塔漿池，預洗滌塔漿池往上依次設有第一噴淋層、第二噴淋層、第三噴淋層、百葉窗除霧器和濕式電除霧器，但是該技術存在運行周期短，洗滌噴淋系統效果較差不能有效的保證氣體被充分洗滌，沖洗過程消耗大量的一次水等問題，不能很好的使用到工業化連續生產中，特別是對于本發明中提到的在二甲基二氯硅烷水解中硅氧烷的去除不能很好的應用。

又如，美國專利US4935220中提出了一種直接除去氯化氫氣體中硅氧烷等雜質的方法。首先，將混合氣體通過一個冷凝器，將其冷卻到-15℃～35℃；然后，將除去冷凝物的氣體加熱至0℃到40℃，以油壓式螺桿式壓縮機將氣體壓力提高至0.6-1.5MPa，將氯化氫氣體和凝結下來的油份分離；最后將氣體通過一根分餾塔，在塔頂采出純凈的氯化氫氣體；但是這種工藝投資巨大，對設備的要求相當高，能耗較大。