[發(fā)明專利]一種尖軌密貼測量系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011331321.1 | 申請日: | 2020-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN112458806A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳曉斌;王嘉;李長春 | 申請(專利權(quán))人: | 綿陽市維博電子有限責任公司 |
| 主分類號: | E01B35/00 | 分類號: | E01B35/00 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 張超 |
| 地址: | 621000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尖軌密貼 測量 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種尖軌密貼測量系統(tǒng)及方法,其中,系統(tǒng)包括用于采集基本軌橫移量和尖軌橫移量的采集模塊;用于將基本軌橫移量和尖軌橫移量傳輸至處理模塊的通信模塊;用于根據(jù)基本軌橫移量和尖軌橫移量對尖軌的密貼狀態(tài)進行分析的處理模塊;其中,位移采集模塊包括第一位移采集模塊、第二位移采集模塊和測量支架,第一位移采集模塊設(shè)置于基本軌外側(cè),用于采集基本軌橫移量;測量支架設(shè)置于尖軌上,第二位移采集模塊設(shè)置于基本軌的底部,用于采集測量支架橫移量。本發(fā)明的目的在于提供一種尖軌密貼測量系統(tǒng)及方法,在該測量系統(tǒng)中,將采集裝置設(shè)置于基本軌的底部,可以避免采集裝置上堆積泥濘灰塵,從而造成測量數(shù)據(jù)不準確的情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及道岔技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種尖軌密貼測量系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
道岔是一種實現(xiàn)列車沿不同軌道進行運行的線路設(shè)備,主要包括轉(zhuǎn)轍器、連接部分、轍叉及護軌。其中,轉(zhuǎn)轍器由基本軌、尖軌及轉(zhuǎn)轍機械構(gòu)成,尖軌與基本軌均為兩個,兩個尖軌均位于兩個基本軌之間。當轉(zhuǎn)轍機械動作時,帶動其中一個尖軌密貼一個基本軌上,另一個尖軌脫離對應(yīng)基本軌,這樣,便完成列車不同軌道的切換。
然而由于列車長時間在鐵軌上運行,道岔處的尖軌以及基本軌會發(fā)生位移,從而導(dǎo)致尖軌不能與基本軌貼合,從而導(dǎo)致列車不能進行軌道切換,影響鐵路線路的運行。
申請?zhí)枮椋篊N201520256527.0,名稱為“基于尖軌位移的道岔狀態(tài)檢測系統(tǒng)”的實用新型專利公布了一種基于尖軌位移的道岔狀態(tài)檢測系統(tǒng),由現(xiàn)場工控機和道岔狀態(tài)檢測裝置組成;道岔狀態(tài)檢測裝置設(shè)有位移傳感模塊,位移傳感模塊包括左側(cè)和右側(cè)激光位移傳感器,左側(cè)和右側(cè)激光位移傳感器分別通過安裝底座固定在軌道道床上并且沿左側(cè)基本軌和右側(cè)基本軌的中軸線對稱分布,它們均位于左側(cè)尖軌和右側(cè)尖軌之間,左側(cè)激光位移傳感器的激光出口垂直指向左側(cè)尖軌的內(nèi)側(cè)豎直端面,右側(cè)激光位移傳感器的激光出口垂直指向右側(cè)尖軌的內(nèi)側(cè)豎直端面;現(xiàn)場工控機的前置數(shù)據(jù)處理電路接收各個左側(cè)激光位移傳感器和右側(cè)激光位移傳感器的輸出信號并將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號后輸出給數(shù)據(jù)采集卡。本實用新型能實現(xiàn)對道岔尖軌全過程運動狀態(tài)的非接觸式檢測。
但是在該方案中,由于激光位移傳感裸露在空氣中,時間久了會出現(xiàn)泥濘或者塵土堆積的情況,從而造成激光測距傳感器不能正常工作。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種尖軌密貼測量系統(tǒng)及方法,在該測量系統(tǒng)中,將采集裝置設(shè)置于基本軌的底部,可以避免采集裝置上堆積泥濘灰塵,從而造成測量數(shù)據(jù)不準確的情況。
本發(fā)明通過下述技術(shù)方案實現(xiàn):
一種尖軌密貼測量系統(tǒng),包括位移采集模塊、通信模塊以及處理模塊;
所述采集模塊,用于采集基本軌橫移量和尖軌橫移量;
所述通信模塊,用于將所述基本軌橫移量和所述尖軌橫移量傳輸至所述處理模塊;
所述處理模塊,用于根據(jù)所述基本軌橫移量和所述尖軌橫移量對所述尖軌的密貼狀態(tài)進行分析;
其中,所述位移采集模塊包括第一位移采集模塊、第二位移采集模塊以及測量支架,所述第一位移采集模塊設(shè)置于所述基本軌的外側(cè),用于采集基本軌橫移量;所述測量支架設(shè)置于所述尖軌上,所述第二位移采集模塊設(shè)置于所述基本軌的底部,用于采集所述測量支架橫移量。
優(yōu)選地,所述處理模塊包括獲取單元、分析單元以及報警單元,
所述獲取單元,用于獲取所述基本軌橫移量和所述測量支架橫移量;
所述分析單元,用于根據(jù)所述基本軌橫移量和所述測量支架橫移量對所述尖軌的密貼狀態(tài)進行分析;
所述報警單元,當所述尖軌的密貼狀態(tài)異常時,所述報警單元進行報警。
優(yōu)選地,所述分析單元包括以下處理過程:
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