[發(fā)明專利]下穿工程的施工方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011330776.1
• 申請日: 2020-11-24
• 公開（公告）號: CN112554201B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發(fā)明（設計）人: 張燕;熊大生;涂仁盼;于廷新;涂啟柱;薛峰;儲團結(jié);黃俊杰;王忠華;彭俊偉;吳守富;米軍;程龍虎;謝凡;沈崢;陳蒙;許澤鵬
• 申請（專利權(quán)）人: 中鐵第四勘察設計院集團有限公司
• 主分類號: E02D17/04
• 分類號: E02D17/04;E21D9/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 胡亮;張穎玲

1.一種下穿工程的施工方法，其特征在于，包括以下步驟：

在基坑預設位置的周邊施工多個圍護樁，在所述基坑的預設位置縱向中心線的第一側(cè)施工多個臨時立柱；

開挖所述基坑直至預設深度，并在開挖過程中依次施工冠梁、第一支撐、腰梁及第二支撐；

在所述基坑的縱向中心線的第二側(cè)施工第一頂進框架，所述第一頂進框架與所述臨時立柱分別位于所述基坑的縱向中心線的不同側(cè)；所述第一頂進框架施工至所述第二支撐的位置時，拆除所述第二支撐；

拆除所述第一頂進框架臨既有線路一側(cè)的所述圍護樁，并頂推所述第一頂進框架至既有線路下方的預設位置，且在所述第一頂進框架頂推前的位置施工第一永久框架；

在所述第一永久框架的頂端施工多個墩柱，將多個所述墩柱施工于所述第一永久框架靠近所述基坑縱向中心線一側(cè)的側(cè)墻上，多個所述墩柱沿所述基坑的縱向間隔排列，然后拆除多個所述臨時立柱；

在所述基坑的縱向中心線的第一側(cè)施工第二頂進框架，并拆除所述第二頂進框架臨既有線路一側(cè)的所述圍護樁，頂推所述第二頂進框架至既有線路下方的預設位置；

在所述第二頂進框架頂推前的位置施工第二永久框架，且拆除所述第一支撐。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，所述開挖所述基坑直至預設深度，并在開挖過程中分別施工冠梁、第一支撐、腰梁及第二支撐的步驟包括：

開挖所述基坑至所述冠梁的預設位置底部，在多個所述圍護樁的頂部施工所述冠梁，在相鄰和/或相對的所述冠梁之間施工所述第一支撐；

繼續(xù)開挖所述基坑至第二支撐的預設位置底部，在多個所述圍護樁朝向所述基坑的一側(cè)施工所述腰梁，在相鄰和/或相對的所述腰梁之間施工所述第二支撐；

繼續(xù)開挖所述基坑至預設深度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，所述圍護樁包括支護樁及旋噴樁，多個所述支護樁設置于所述基坑的預設位置周邊，多個所述旋噴樁圍設于多個所述支護樁的外周側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，所述第一支撐為鋼支撐或者鋼筋混凝土支撐；和/或，所述第二支撐為鋼支撐或者鋼筋混凝土支撐。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，在既有線路下方，所述第二頂進框架靠近所述基坑縱向中心線的側(cè)面與所述第一頂進框架靠近所述基坑縱向中心線的側(cè)面抵接；和/或

所述第一永久框架靠近所述基坑縱向中心線的側(cè)面與所述第二永久框架靠近所述基坑縱向中心線的側(cè)面抵接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，所述第一永久框架與所述第二永久框架施工完成后，分別回填所述第一永久框架與所述圍護樁之間的間隙以及所述第二永久框架與所述圍護樁之間的間隙。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的下穿工程的施工方法，其特征在于，所述開挖所述基坑直至預設深度，并在開挖過程中分別施工冠梁、第一支撐、腰梁及第二支撐的步驟之后，還包括以下步驟：

在所述基坑底部的縱向中心線的兩側(cè)分別施工墊層或者滑板以便于將所述第一頂進框架、所述第二頂進框架頂推至既有線路的預設位置。