[發明專利]等離子體處理裝置和電極消耗量測定方法

在審

• 申請號: 202011329429.7
• 申請日: 2020-11-24
• 公開（公告）號: CN112992638A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 河村浩司
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種等離子體處理裝置，具有相向的第一電極和第二電極，所述等離子體處理裝置的特征在于，具備：

功率施加部，其對所述第一電極和所述第二電極中的任一電極以不使等離子體點火的方式施加射頻功率；

測定部，其測定與從所述功率施加部施加的所述射頻功率有關的物理量；以及

計算部，其將測定出的與所述射頻功率有關的物理量用于所述第一電極與所述第二電極之間的電極間距離同與所述射頻功率有關的物理量的相關函數中，來求出所述電極間距離。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

還具備通知部，在所述距離為閾值以上的情況下，所述通知部通知警報。

3.根據權利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述計算部變更將具有規定厚度的基準電極用作了所述第一電極的情況下的所述基準電極與所述第二電極之間的所述電極間距離并測量作為基準的與射頻功率有關的物理量，求出表示多個所述電極間距離同所述作為基準的與射頻功率有關的物理量的關系的相關函數。

4.根據權利要求3所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

測定變更所述第一電極與所述第二電極之間的距離并將所述第一電極配置于多個所述電極間距離下的配置過所述基準電極的位置的情況下的、與所述射頻功率有關的物理量，基于所述相關函數來獲取同測定出的各與所述射頻功率有關的物理量對應的對應距離，求出各所述對應距離與多個所述電極間距離的差的平均來求出所述第一電極與所述第二電極之間的距離。

5.根據權利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

將具有規定厚度的基準電極用作所述第一電極，測量被配置于規定位置的所述基準電極同所述第二電極之間的與第一射頻功率有關的物理量，將厚度比所述規定厚度薄的消耗電極用作所述第一電極，測量被配置于所述規定位置的所述消耗電極同所述第二電極之間的與第二射頻功率有關的物理量，求出表示與所述第一射頻功率有關的物理量同與所述第二射頻功率有關的物理量的關系的相關函數。

6.根據權利要求1至5中的任一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

與所述射頻功率有關的物理量為射頻電壓、射頻電流、射頻功率與射頻電流的相位差、以及阻抗中的至少一方。

7.一種電極消耗量測定方法，其特征在于，

在具有相向的第一電極和第二電極的等離子體裝置中，

對所述第一電極和所述第二電極中的任一電極以不使等離子體點火的方式施加射頻功率，

測定與施加的所述射頻功率有關的物理量，

將測定出的與所述射頻功率有關的物理量用于所述第一電極與所述第二電極之間的電極間距離同與所述射頻功率有關的物理量的相關函數中，來求出所述電極間距離。