[發(fā)明專利]一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層及其制備方法和應用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011327091.1 | 申請日： | 2020-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN112442670A | 公開（公告）日： | 2021-03-05 |
| 發(fā)明（設計）人： | 彭長明 | 申請（專利權）人： | 創(chuàng)隆實業(yè)（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新愛 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大功率 磁控濺射 pvd 紫色 涂層 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層，其特征在于，所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層是由鈦硅底層和TiSiN+TiNO+SiNO的復合涂層構成，所述復合涂層是由n個TiSiN+TiNO+SiNO涂層組成，n為大于或等于1的整數。
2.根據權利要求1所述的大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層，其特征在于，所述n等于1。
3.根據權利要求1所述的大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層，其特征在于，所述n為大于1的整數。
4.權利要求1-3任一項所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的制備方法，其特征在于，所述方法包含以下步驟：
(1)采用80A電流磁控濺射鈦靶和硅靶沉積鈦硅底層，通入300sccm氬氣，偏壓80V，占空比50％，時長5分鐘；
(2)采用80A電流磁控濺射鈦靶和硅靶，通入160sccm氮氣，沉積TiSiN涂層，偏壓80V，占空比50％，時長25分鐘；
(3)采用80A電流磁控濺射鈦靶，通入250sccm氧氣，100sccm氮氣，沉積TiNO涂層，偏壓80V，占空比30％，時長30分鐘；
(4)采用80A電流磁控濺射硅靶，通入180sccm氧氣，100sccm氮氣，沉積SiNO涂層，偏壓80V，占空比30％，時長20分鐘；
其中，所述步驟(4)之后重復步驟(2)-(4)，重復次數為n-1。
5.根據權利要求4所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的制備方法，其特征在于，所述重復次數為0。
6.根據權利要求4所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的制備方法，其特征在于，所述重復次數為n-1，且n為大于1的整數。
7.權利要求1-3任一項所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫紫色涂層用于金屬、金屬化合物或無機材料中的一種基材或多種基材上。
8.根據權利要求7所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫紫色涂層用于金屬或金屬化合物上。
9.根據權利要求7所述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫紫色涂層用于不銹鋼上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
