[發明專利]一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202011327091.1
• 申請日: 2020-11-24
• 公開（公告）號: CN112442670A
• 公開（公告）日: 2021-03-05
• 發明（設計）人: 彭長明
• 申請（專利權）人: 創隆實業（深圳）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/06
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王新愛

本發明屬于PVD濺射技術領域，公開了一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層及其制備方法和應用。本發明的大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層是由鈦硅底層和TiSiN+TiNO+SiNO的復合涂層構成，所述復合涂層是由n個TiSiN+TiNO+SiNO涂層組成，n為大于或等于1的整數，所述大功率是指的80A大功率，該炫紫色涂層是通過大功率磁控濺射靶獲得，可以疊加復合，涂層顏色層更厚更致密，耐磨性能良好，顏色穩定，便于大批量生產。

技術領域

本發明涉及PVD濺射技術領域，具體是涉及一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層及其制備方法和應用。

背景技術

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)涂層技術應用在很多表面處理和薄膜材料制備方面，如模具表面硬質涂層、各種零部件表面的防護涂層、表面改性涂層、導電和透光涂層等。磁控濺射是PVD的一種，一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。

傳統PVD技術是金屬產品表面及無機材料(玻璃，陶瓷，藍寶石等)表面的常規表面處理技術。目前的PVD涂層過程中，涂層材料的最大問題就是致密性的問題，這導致涂層薄膜材料的性能與實體塊材差別很大，使涂層材料的特性不能充分的表現出來。此外，目前市場采用磁控濺射PVD方法沉積的炫紫色涂層，顏色不穩定，在產品上由于沉積膜厚不均勻，膜層的光學效果不同，只能做到一面的顏色要求，耐磨等功能性測試性能很差，達不到客戶需求。

發明內容

本發明的目的是為了克服上述背景技術的不足，提供一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層及其制備方法和應用，所述大功率是指的80A大功率，本發明的炫紫色涂層是通過大功率磁控濺射靶獲得，在保證均一性的基礎上，更厚、更致密，耐磨性能更好。

為達到本發明的目的，本發明的大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層是由鈦硅底層和TiSiN+TiNO+SiNO的復合涂層構成，所述復合涂層是由n個TiSiN+TiNO+SiNO涂層組成，n為大于或等于1的整數。

進一步地，在本發明的一些實施例中，所述n等于1。

優選地，在本發明的一些實施例中，所述n為大于1的整數。

另一方面，為達到本發明的目的，本發明還提供了一種前述大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的制備方法，所述方法包含以下步驟：

(1)采用80A電流磁控濺射鈦靶和硅靶沉積鈦硅底層，通入300sccm氬氣，偏壓80V，占空比50％，時長5分鐘；

(2)采用80A電流磁控濺射鈦靶和硅靶，通入160sccm氮氣，沉積TiSiN涂層，偏壓80V，占空比50％，時長25分鐘；

(3)采用80A電流磁控濺射鈦靶，通入250sccm氧氣，100sccm氮氣，沉積TiNO涂層，偏壓80V，占空比30％，時長30分鐘；

(4)采用80A電流磁控濺射硅靶，通入180sccm氧氣，100sccm氮氣，沉積SiNO涂層，偏壓80V，占空比30％，時長20分鐘；

其中，所述步驟(4)之后重復步驟(2)-(4)，重復次數為n-1。

進一步地，在本發明的一些實施例中，所述重復次數為0。

優選地，在本發明的一些實施例中，所述重復次數為n-1，且n為大于1的整數。

進一步地，本發明還提供了一種大功率磁控濺射靶PVD炫紫色涂層的應用，所述應用為將所述PVD炫紫色涂層用于金屬、金屬化合物或無機材料中的一種基材或多種基材上。

優選地，在本發明的一些實施例中，所述應用為將所述PVD炫紫色涂層用于金屬或金屬化合物上。