[發明專利]游戲中對象表面高光渲染方法、裝置、設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202011315109.6
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN112419466A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 丁許朋;湯杰;熊鑫
• 申請（專利權）人: 蘇州幻塔網絡科技有限公司
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04;G06T15/50;A63F13/50
• 代理公司: 北京太合九思知識產權代理有限公司 11610
• 代理人: 孫明子;劉戈

本發明實施例提供一種游戲中對象表面高光渲染方法、裝置、設備和存儲介質，該方法包括：獲取待渲染對象的粗糙度貼圖和法線貼圖；基于粗糙度貼圖和法線貼圖，確定目標系數，目標系數表示待渲染對象微表面中法線方向與光線和視線的半角向量相同的比率；獲取修正函數；基于修正函數、目標系數以及粗糙度貼圖，確定待渲染對象表面高光度，以支持待渲染對象表面的高光渲染操作。采用本發明，通過使用基于物理的高光算法來克服傳統高光算法中能量不守恒及不能表達各項異性物體的缺點，以使得本方案可以實現能量守恒，且能表達各項異性待渲染對象高光的差異，進而可以提高渲染待渲染對象表面高光效果。

技術領域

本發明涉及圖像渲染技術領域，尤其涉及一種游戲中對象表面高光渲染方法、裝置、設備和存儲介質。

背景技術

相關技術中，在實現渲染待渲染對象表面高光的過程中，會采用Blin-Phone 光照模型中的高光算法。采用Blin-Phone光照模型中的高光算法渲染的待渲染對象表面高光的一種效果圖可見圖1。這種算法存在以下一些缺陷：不能基于能量守恒定律實現高光度計算、不能實際表達各項異性的待渲染對象的高光、不能表達高光越集中高光度越高的現象等。

發明內容

本發明實施例提供一種游戲中對象表面高光渲染方法、裝置、設備和存儲介質，用以實現提高渲染待渲染對象表面高光效果。

第一方面，本發明實施例提供一種游戲中對象表面高光渲染方法，該方法包括：

獲取待渲染對象的粗糙度貼圖和法線貼圖；

基于所述粗糙度貼圖和所述法線貼圖，確定目標系數，所述目標系數表示待渲染對象微表面中法線方向與光線和視線的半角向量相同的比率；

獲取修正函數；

基于所述修正函數、所述目標系數以及所述粗糙度貼圖，確定待渲染對象表面高光度，以支持所述待渲染對象表面的高光渲染操作。

可選地，所述基于所述粗糙度貼圖和所述法線貼圖，確定目標系數，包括：

從所述法線貼圖中，獲取所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量；

從所述粗糙度貼圖中，獲取待渲染對象表面粗糙度；

基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數。

可選地，所述基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數，包括：

通過公式，基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數；

所述公式為：

其中，所述D(h)為所述目標系數；所述a為所述待渲染對象表面粗糙度的平方；所述n為所述待渲染對象微表面中法線方向；所述h為所述光線和視線的半角向量。

可選地，所述修正函數為平滑階躍函數。

可選地，所述平滑階躍函數為：

其中，所述a為所述待渲染對象表面粗糙度的平方；所述x＝D(h)×Cspec，所述D(h)為所述目標系數，所述Cspec為所述待渲染對象表面高光度。

第二方面，本發明實施例提供一種游戲中對象表面高光渲染裝置，包括：

獲取模塊，用于獲取待渲染對象的粗糙度貼圖和法線貼圖；