[發明專利]游戲中對象表面高光渲染方法、裝置、設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202011315109.6
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN112419466A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 丁許朋;湯杰;熊鑫
• 申請（專利權）人: 蘇州幻塔網絡科技有限公司
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04;G06T15/50;A63F13/50
• 代理公司: 北京太合九思知識產權代理有限公司 11610
• 代理人: 孫明子;劉戈

1.一種游戲中對象表面高光渲染方法，其特征在于，包括：

獲取待渲染對象的粗糙度貼圖和法線貼圖；

基于所述粗糙度貼圖和所述法線貼圖，確定目標系數，所述目標系數表示待渲染對象微表面中法線方向與光線和視線的半角向量相同的比率；

獲取修正函數；

基于所述修正函數、所述目標系數以及所述粗糙度貼圖，確定待渲染對象表面高光度，以支持所述待渲染對象表面的高光渲染操作。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述粗糙度貼圖和所述法線貼圖，確定目標系數，包括：

從所述法線貼圖中，獲取所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量；

從所述粗糙度貼圖中，獲取待渲染對象表面粗糙度；

基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數，包括：

通過公式，基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數；

所述公式為：

其中，所述D(h)為所述目標系數；所述a為所述待渲染對象表面粗糙度的平方；所述n為所述待渲染對象微表面中法線方向；所述h為所述光線和視線的半角向量。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述修正函數為平滑階躍函數。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述平滑階躍函數為：

其中，所述a為所述待渲染對象表面粗糙度的平方；所述x＝D(h)×Cspec，所述D(h)為所述目標系數，所述Cspec為所述待渲染對象表面高光度。

6.一種游戲中對象表面高光渲染裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取待渲染對象的粗糙度貼圖和法線貼圖；

確定模塊，用于基于所述粗糙度貼圖和所述法線貼圖，確定目標系數，所述目標系數表示待渲染對象微表面中法線方向與光線和視線的半角向量相同的比率；

所述獲取模塊，用于獲取修正函數；

所述確定模塊，用于基于所述修正函數、所述目標系數以及所述粗糙度貼圖，確定待渲染對象表面高光度，以支持所述待渲染對象表面的高光渲染操作。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述確定模塊，用于：

從所述法線貼圖中，獲取所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量；

從所述粗糙度貼圖中，獲取待渲染對象表面粗糙度；

基于所述待渲染對象表面粗糙度、所述待渲染對象微表面中法線方向以及所述光線和視線的半角向量，計算目標系數。

8.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述修正函數為平滑階躍函數。

9.一種電子設備，其特征在于，包括：存儲器、處理器；其中，所述存儲器上存儲有可執行代碼，當所述可執行代碼被所述處理器執行時，使所述處理器執行如權利要求1-5中任一項所述的游戲中對象表面高光渲染方法。

10.一種非暫時性機器可讀存儲介質，其特征在于，所述非暫時性機器可讀存儲介質上存儲有可執行代碼，當所述可執行代碼被電子設備的處理器執行時，使所述處理器執行如權利要求1-5中任一項所述的游戲中對象表面高光渲染方法。