[發明專利]曝光裝置以及物品制造方法

在審

• 申請號: 202011309657.8
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN112835267A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 志村真鄉
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

本公開涉及曝光裝置以及物品制造方法。提供具有有利于減輕光學系統的振動的構造的曝光裝置。對基板進行曝光的曝光裝置具有：投影光學系統，將原版的圖案投影到所述基板；腔，收容所述投影光學系統；遮板，在曝光中關閉為了搬送基板而設置于所述腔的開口部；以及調整部，調整利用所述遮板的來自所述腔的外部的聲音的衰減效果。

技術領域

本發明涉及曝光裝置以及物品制造方法。

背景技術

在作為半導體設備、液晶面板等的制造工序的光刻工序中，使用將形成于原版的圖案經由投影光學系統轉印到基板的曝光裝置。在曝光裝置中，在包圍投影光學系統的腔中設置有基板搬送用的開口部，經由該開口部，搬送從收納基板的保管用盒取出的基板。在保管用盒和基板搬送用的開口部中，設置僅在搬送時打開的遮板，從而防止塵土附著到基板、塵土侵入到曝光裝置內。

在專利文獻1中，公開為了抑制塵土由于氣流的擾動附著到基板而關閉遮板的方法。在專利文獻2中，公開在保管用盒中包括具有密閉功能的遮板，在搬出時以外關閉遮板的方法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2011-243759號公報

專利文獻2：國際公開第2007/114293號

發明內容

隨著半導體設備、液晶面板的高精細化發展，要求減輕影響曝光精度的光學系統的振動。作為光學系統的振動的主要原因，可以舉出從基板搬送用的開口部進入的噪音。因此，為了切斷這樣的噪音，考慮在曝光中關閉基板搬送用的開口部。

但是，以往的關閉開口部的遮板僅用于防塵，所以隔音性能低，無法減輕光學系統的振動。另外，根據曝光裝置的設置環境，進入到裝置內的環境音不同，所以需要與環境音對應的隔音性能。

本發明的目的在于例如提供一種具有有利于減輕光學系統的振動的構造的曝光裝置。

根據本發明的第1側面，提供一種對基板進行曝光的曝光裝置，其特征在于，具有：投影光學系統，將原版的圖案投影到所述基板；腔，收容所述投影光學系統；遮板，在曝光中關閉為了搬送基板而設置于所述腔的開口部；以及調整部，調整利用所述遮板的來自所述腔的外部的聲音的衰減效果。

根據本發明的第2側面，提供一種物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第1側面所涉及的曝光裝置對基板進行曝光的工序；以及使在所述工序中曝光后的所述基板顯影的工序，根據顯影后的所述基板制造物品。

根據本發明，例如，能夠提供具有有利于減輕光學系統的振動的構造的曝光裝置。

附圖說明

圖1是示出曝光裝置的結構的圖。

圖2是示出遮板的結構的圖。

圖3是遮板的控制框圖。

圖4是遮板控制以及曝光處理的流程圖。

圖5是示出遮板的結構的圖。

圖6是遮板的控制框圖。

圖7是遮板控制以及曝光處理的流程圖。

圖8是示出遮板的結構的圖。

圖9是遮板的控制框圖。

圖10是遮板控制以及曝光處理的流程圖。

圖11是遮板控制以及曝光處理的流程圖。

圖12是例示在功率譜中關注的頻帶的圖。

圖13是示出曝光裝置的結構的圖。

圖14是遮板的控制框圖。