[發(fā)明專利]曝光裝置以及物品制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011309657.8
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN112835267A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 志村真鄉(xiāng)
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種對基板進行曝光的曝光裝置，其特征在于，具有：

投影光學(xué)系統(tǒng)，將原版的圖案投影到所述基板；

腔，收容所述投影光學(xué)系統(tǒng)；

遮板，在曝光中關(guān)閉為了搬送基板而設(shè)置于所述腔的開口部；以及

調(diào)整部，調(diào)整利用所述遮板的來自所述腔的外部的聲音的衰減效果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述遮板包括遮板部件，該遮板部件具備放入液體的容器，

所述調(diào)整部通過調(diào)整所述容器中的液體的量來調(diào)整所述衰減效果。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述遮板包括聲音的衰減性能相互不同的第1遮板部件和第2遮板部件，

所述調(diào)整部為了關(guān)閉所述開口部而使所述第1遮板部件和所述第2遮板部件中的某一方動作，從而調(diào)整所述衰減效果。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

所述調(diào)整部在第1調(diào)整狀態(tài)與第2調(diào)整狀態(tài)之間變更調(diào)整狀態(tài)，該第1調(diào)整狀態(tài)是在第1頻帶中所述衰減效果低且在比所述第1頻帶高的第2頻帶中所述衰減效果高的狀態(tài)，該第2調(diào)整狀態(tài)是在所述第1頻帶中所述衰減效果高且在所述第2頻帶中所述衰減效果低的狀態(tài)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，具有：

音波傳感器，配置于所述開口部的附近；

處理部，處理由所述音波傳感器檢測出的聲音；以及

控制部，根據(jù)由所述處理部處理所述聲音的結(jié)果，控制所述調(diào)整部，

所述處理部進行由所述音波傳感器檢測出的聲音的頻率分析，在通過所述頻率分析得到的功率譜中檢測功率成為最大的第1頻率，

所述控制部在所述第1頻率高于預(yù)定的閾值的情況下，控制所述調(diào)整部以成為所述第1調(diào)整狀態(tài)，否則，控制所述調(diào)整部以成為所述第2調(diào)整狀態(tài)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，具有：

音波傳感器，配置于所述開口部的附近；

處理部，處理由所述音波傳感器檢測出的聲音；以及

控制部，根據(jù)由所述處理部處理所述聲音的結(jié)果，控制所述調(diào)整部，

所述處理部通過進行由所述音波傳感器檢測出的所述聲音的頻率分析來取得功率譜，計算作為所述第1頻帶中的所述功率譜的積分值的第1積分值、和作為所述第2頻帶中的所述功率譜的積分值的第2積分值，

所述控制部在所述第2積分值大于所述第1積分值的情況下，控制所述調(diào)整部以成為所述第1調(diào)整狀態(tài)，否則，控制所述調(diào)整部以成為所述第2調(diào)整狀態(tài)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，具有：

受光傳感器，檢測通過所述投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光光；

處理部，處理由所述受光傳感器檢測出的所述曝光光；以及

控制部，根據(jù)由所述處理部處理所述曝光光的結(jié)果，控制所述調(diào)整部，

所述處理部通過進行由所述受光傳感器檢測出的所述曝光光的頻率分析來取得功率譜，計算作為所述第1頻帶中的所述功率譜的積分值的第1積分值、和作為所述第2頻帶中的所述功率譜的積分值的第2積分值，

所述控制部在所述第2積分值大于所述第1積分值的情況下，控制所述調(diào)整部以成為所述第1調(diào)整狀態(tài)，否則，控制所述調(diào)整部以成為所述第2調(diào)整狀態(tài)。

8.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

使用權(quán)利要求1至7中的任意一項所述的曝光裝置對基板進行曝光的工序；以及

使在所述工序中曝光后的所述基板顯影的工序，

所述物品制造方法根據(jù)顯影后的所述基板制造物品。