[發(fā)明專(zhuān)利]空氣橋的制備方法、空氣橋結(jié)構(gòu)及超導(dǎo)量子芯片

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011309305.2
• 申請(qǐng)日: 2020-11-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113707601A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張文龍;淮賽男;鄭亞銳;馮加貴;熊康林;丁孫安
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 騰訊科技（深圳）有限公司;中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/768
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/768
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 徐立

本申請(qǐng)公開(kāi)了一種空氣橋的制備方法、空氣橋結(jié)構(gòu)及超導(dǎo)量子芯片，涉及電路結(jié)構(gòu)領(lǐng)域。該方法包括：在襯底上沉積符合空氣橋形狀的橋撐材料；在襯底和橋撐材料上涂敷圖形化光刻膠；基于空氣橋的開(kāi)口要求接收在圖形化光刻膠上的曝光圖形化處理，開(kāi)口要求用于指示空氣橋的橋面上開(kāi)口的位置要求；在曝光圖形化處理后的圖形化光刻膠上進(jìn)行顯影處理；在顯影處理后的橋撐材料上沉積橋材料，得到具有開(kāi)口的空氣橋。通過(guò)在圖形化光刻膠上進(jìn)行圖形化曝光處理，從而在橋面上設(shè)置貫通橋面的開(kāi)口結(jié)構(gòu)，而在制備空氣橋的過(guò)程中，通過(guò)該開(kāi)口結(jié)構(gòu)釋放橋撐材料，從開(kāi)口位置釋放刻蝕材料刻蝕橋撐材料，確保橋撐材料的釋放完整度，避免在橋洞內(nèi)部留下橋撐材料的殘?jiān)?/p>

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)實(shí)施例涉及電路結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，特別涉及一種空氣橋的制備方法、空氣橋結(jié)構(gòu)及超導(dǎo)量子芯片。

背景技術(shù)

空氣橋是一種電路結(jié)構(gòu)，是以三維橋形結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)平面電路跨接的一種方式，適應(yīng)于各種芯片上，特別適用于倒裝焊芯片和超導(dǎo)量子芯片等。由于橋與電路之間的介質(zhì)為空氣或者真空，所以稱(chēng)為空氣橋或者真空橋，一般也會(huì)簡(jiǎn)稱(chēng)為空橋。

在制備空氣橋的過(guò)程中，需要先制備出支撐物，以支撐橋梁，這部分支撐物稱(chēng)為橋撐。相關(guān)技術(shù)中，在空氣橋的制備過(guò)程中，使用非光刻膠的橋撐(如二氧化硅、氧化鋅等)，在其上部沉積材料，再進(jìn)行光刻膠的涂敷、曝光、顯影，在空橋結(jié)構(gòu)位置處覆蓋上保護(hù)膠并將其余位置的材料刻蝕掉，然后使用去膠液去除所有光刻膠，最后再釋放橋撐得到空氣橋。

然而，通過(guò)上述方式制備空氣橋，尤其是全包式空氣橋時(shí)，因?yàn)闃虻目v深長(zhǎng)，所以在釋放橋撐時(shí)，橋洞內(nèi)部很容易留下大量橋撐殘?jiān)骷馁|(zhì)量會(huì)受到極大影響。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種空氣橋的制備方法、空氣橋結(jié)構(gòu)及超導(dǎo)量子芯片，能夠提高空氣橋的制備準(zhǔn)確率和質(zhì)量。所述技術(shù)方案如下：

一方面，提供了一種空氣橋的制備方法，所述方法包括：

在襯底上沉積符合所述空氣橋形狀的橋撐材料；

在所述襯底和所述橋撐材料上涂敷圖形化光刻膠；

基于所述空氣橋的開(kāi)口要求接收在所述圖形化光刻膠上的曝光圖形化處理，所述開(kāi)口要求用于指示所述空氣橋的橋面上開(kāi)口的位置要求；

在曝光圖形化處理后的所述圖形化光刻膠上進(jìn)行顯影處理；

在顯影處理后的橋撐材料上沉積橋材料，得到具有所述開(kāi)口的所述空氣橋。

另一方面，提供了一種空氣橋結(jié)構(gòu)，所述空氣橋結(jié)構(gòu)中包括：襯底和橋體；

所述橋體位于所述襯底上；

所述橋體的橋面上具有貫通所述橋面的開(kāi)口。

另一方面，提供了一種超導(dǎo)量子芯片，所述超導(dǎo)量子芯片中包括基片和集成在所述基片上的量子線路；

所述超導(dǎo)量子芯片中還包括如上述實(shí)施例中所述的空氣橋結(jié)構(gòu)。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來(lái)的有益效果至少包括：

通過(guò)在圖形化光刻膠上進(jìn)行圖形化曝光處理，從而在橋面上設(shè)置貫通橋面的開(kāi)口結(jié)構(gòu)，而在制備空氣橋的過(guò)程中，通過(guò)該開(kāi)口結(jié)構(gòu)釋放橋撐材料，從開(kāi)口位置釋放刻蝕材料刻蝕橋撐材料，確保橋撐材料的釋放完整度，避免在橋洞內(nèi)部留下橋撐材料的殘?jiān)岣吡丝諝鈽虻恼w器件質(zhì)量，以及提高了空氣橋的制備準(zhǔn)確率。