[發明專利]基站和驅動輪以及由基站和地面處理設備組成的系統

在審

• 申請號: 202011309208.3
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN112826371A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: H.文多爾弗
• 申請（專利權）人: 德國福維克控股公司
• 主分類號: A47L11/00
• 分類號: A47L11/00;A47L11/40
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 侯宇

1.一種基站(1)，用于實施對地面處理設備(2)的維護操作，其中，所述基站(1)具有基礎殼體(3)，所述基礎殼體具有用于對接地面處理設備(2)的接口(4)，其特征在于，所述基站(1)具有配屬于所述接口(4)的導引托架(6)，所述導引托架通過占大部分的縱向延伸部(5)背離所述基礎殼體(3)地指向，以便僅機械地導引所述地面處理設備(2)朝所述接口(4)的對接運動，其中，所述導引托架(6)的在豎向的俯視觀察中的外輪廓(7)從所述基礎殼體(3)開始直至所述導引托架(6)的遠離所述基礎殼體(3)的自由端部區域(8)收窄。

2.根據權利要求1所述的基站(1)，其特征在于，設有能夠被所述地面處理設備(2)駛過的底板(9)，所述導引托架(6)構造或布置在所述底板上。

3.根據權利要求1或2所述的基站(1)，其特征在于，所述導引托架(6)的端部區域(8)參照水平的視圖具有向外指向的輔助斜面(10)。

4.一種用于自主行進的地面處理設備(2)的驅動輪(11)，所述驅動輪具有容納驅動軸(12)的輪體(13)和沿周向在所述輪體(13)上構造的作業運行面(14)，其特征在于，所述輪體(13)具有同中心地從輪體端側(15)突伸出的柱形的接觸元件(16)，所述接觸元件具有沿周向在所述接觸元件(16)上構造的接觸面(17)，其中，所述接觸面(17)的接觸面直徑(D₂)小于所述作業運行面(14)的作業運行面直徑(D₁)。

5.根據權利要求4所述的驅動輪(11)，其特征在于，所述接觸面直徑(D₂)等于所述作業運行面直徑(D₁)的70％至90％。

6.根據權利要求4所述的驅動輪(11)，其特征在于，所述接觸面直徑(D₂)等于所述作業運行面直徑(D₁)的80％。

7.根據權利要求4或5所示的驅動輪(11)，其特征在于，所述接觸元件(16)的接觸面(17)沿軸向具有2mm至10mm的接觸面寬度(B₁)。

8.一種由根據權利要求1構造的基站(1)和自主行進的地面處理設備(2)組成的系統，所述地面處理設備具有至少兩個驅動輪(11)，其中，至少一個驅動輪(11)根據權利要求4所述地構造并且在朝向其它驅動輪(11)的輪體端側(15)上具有接觸元件(16)。

9.根據權利要求8所述的系統，其特征在于，兩個相互對置的驅動輪(11)的輪體端側(15)的與作業運行面(14)鄰接的邊緣區域彼此間具有軸向距離(A)，所述軸向距離大于導引托架(6)的外輪廓(7)的垂直于縱向延伸部(5)定向的最大外輪廓寬度(B₂)，從而使所述導引托架(6)能夠容納在驅動輪(11)之間。

10.根據權利要求8或9所述的系統，其特征在于，所述導引托架(6)的縱向延伸部(5)的尺寸至少等于所述地面處理設備(2)的兩個同中心地布置的驅動輪(11)之間的軸向距離(A)。

11.根據權利要求8或9所述的系統，其特征在于，所述導引托架(6)的豎直高度(H)大于接觸面直徑(D2)與作業運行面直徑(D1)之間的直徑差的一半，從而當接觸面(17)在所述導引托架(6)上滾動時，所述地面處理設備(2)的驅動輪(11)不再支承在作業運行面(14)上。