[發明專利]一種機械式晶圓對中裝置在審
| 申請號: | 202011305894.7 | 申請日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN112234014A | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發明(設計)人: | 劉曉龍;王沖 | 申請(專利權)人: | 寧波潤華全芯微電子設備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/683 |
| 代理公司: | 寧波高新區永創智誠專利代理事務所(普通合伙) 33264 | 代理人: | 付帥 |
| 地址: | 315400 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 機械式 裝置 | ||
1.一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于,包括對中安裝板(1),在所述對中安裝板(1)上固定設置有提升機構(2),所述提升機構(2)的輸出軸上固定有固定盤(3);在所述固定盤(3)兩側對稱設置的對中塊(4),所述對中塊(4)通過驅動機構(5)驅動其向所述固定盤(3)處直線滑移,所述固定盤(3)的表面上設置有向內凹陷的弧形槽(30),所述弧形槽(30)與負壓裝置連接。
2.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述對中塊(4)靠近所述固定盤的一側設置有圓弧形的表面。
3.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述驅動機構(5)包括在所述對中安裝板的上端面上固定的夾持氣缸(50),所述夾持氣缸(50)位于所述固定盤(3)的正下方,在所述夾持氣缸(50)包括位于所述夾持氣缸兩端設置的兩個輸出端(51),兩塊所述對中塊(4)分別與兩個輸出端(51)固定。
4.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述提升機構(2)包括提升氣缸缸體(20)和提升氣缸氣缸桿(21),在所述提升氣缸缸體(20)的一側設置有縱向延伸的導向塊(22),所述提升氣缸氣缸桿(21)包括位于所述提升氣缸缸體內的塞桿(23)和在所述塞桿(23)端部設置的L型基座(24),所述L型基座(24)的一側設置有與所述導向塊滑動配合的滑軌(25)。
5.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述對中塊(4)通過夾持臂(40)與所述驅動機構(5)的輸出端固定連接。
6.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述固定盤(3)為圓形,所述弧形槽(30)為若干同心的圓形槽。
7.如權利要求6所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述并且不同直徑的圓形槽之間通過至少一連接槽(31)連通。
8.如權利要求6所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述直線型的連接槽(31)所在直線經過過所述固定盤(3)的圓心,所述連接槽(31)的數量為4條。
9.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述弧形槽(30)之間設有隔板(6),所述隔板(6)頂部設有密封環(7),晶圓可與所述密封環(7)壓緊密封。
10.如權利要求1所述的一種機械式晶圓對中裝置,其特征在于:所述對中塊(4)頂部設有一側壁為弧形的晶圓卡塊(8),所述晶圓卡塊(8)用于晶圓的定位卡接,所述晶圓卡塊(8)可拆卸的固定在所述對中塊(4)頂部。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





