[發明專利]一種新型連續鍍膜線真空冷阱的布置方式和工作方法

在審

• 申請號: 202011299797.1
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112481599A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 彭壽;張康;張超群;王貝;葛治亮;井治;陶飛
• 申請（專利權）人: 中國建材國際工程集團有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 郎祺

本發明提供了一種新型連續鍍膜線真空冷阱的布置方式和工作方法，該布置方式包括將冷阱系統安裝于鍍膜工藝室外的一側，且通過管道與鍍膜工藝室連通；冷阱系統包括冷阱和與冷阱連接的冷阱盤管；將冷阱盤管通過加熱固定裝置固定于冷阱盤管腔室內；冷阱盤管腔室的一端連接于鍍膜工藝室，另一端連接于一前級泵抽系統。本發明具有著結構簡單、成本低廉、維護方便、不占用工藝腔室空間、不影響鍍膜工藝、制冷盤管長度可調節等優點，適用于不同寬度規格的鍍膜線，避免定期除霜需要對生產線整線破空，保證生產的連續性和工藝的穩定性，降低維護成本，大大提高了生產效率，對實際生產具有重大意義。

技術領域

本發明涉及鍍膜玻璃生產線冷阱設備領域，尤其涉及一種新型連續鍍膜線真空冷阱的布置方式和工作方法。

背景技術

真空磁控濺射鍍膜在玻璃鍍膜領域應用廣泛，低輻射鍍膜玻璃(Low-E)，其核心就是利用磁控濺射鍍膜技術在玻璃基底上制備多層復合膜，使其具有高透過率低輻射性能，從而具備節能保溫性能。磁控濺射設備包含腔體、傳輸、鍍膜工藝、真空獲得、冷卻等部分。真空獲得在整個鍍膜設備中具有重要作用。

冷阱作為真空獲得設備的一個重要組成部分，對快速獲得高真空提高生產節拍，減少腔體內水分子量提高成膜質量具有重要意義。磁控濺射鍍膜工藝對真空度要求高，本底一般可達到10^-4Pa。當真空度到達10^-2Pa時，水汽往往成為制約真空度降低的關鍵因素，同時，水汽的存在也會對鍍膜工藝產生一定影響，如：影響薄膜附著力和相關的光學和力學性能。為此通常設備都會添加冷阱用于提高本底真空、提高成膜質量、加快抽氣速度、提高生產節拍。

目前，連續式磁控濺射真空鍍膜線使用的冷阱直接放置在工藝室內，鍍膜前真空獲得時，冷阱直接進行低溫制冷捕集水汽，從而實現快速實現高真空的獲得。當冷阱功率一定，工藝室本底真空一定的情況下，冷阱盤管長度往往是確定的，即盤管的表面積基本確定。冷阱盤管表面積直接限制了冷阱的最大制冷量，當盤管表面吸附水汽結霜達到一定厚度后，冷阱制冷效果大大降低，捕集水汽能力大幅度下降，此時冷阱盤管表面必須進行除霜才能使冷阱繼續高效使用。有限的盤管面積要求冷阱設備必須定期進行除霜，從而保證冷阱工作效率和工作效果，但在工藝室內直接進行除霜，會在短時間內迅速降低腔室的真空度，從而導致產品質量下降、工藝室真空泵的損壞等問題。

實際生產時，整條鍍膜線需要定期破空，對冷阱盤管進行高溫除霜，尤其在高濕度地區，空氣濕度大，冷阱盤管極易結霜，需要經常進行破空除霜，單次破空除霜維護再抽真空至本底壓強至少需要半天，極大的降低了生產效率。

針對現有設備冷阱存在的問題，基于冷阱低溫制冷高效捕集水汽的特性，需要一種將冷阱和鍍膜生產工藝室分開設置，冷阱盤管可獨立破空除霜的分布方式和工作方法。

發明內容

本發明為解決現有技術中的冷阱盤管需要經常破空除霜，導致鍍膜生產線需要整線破空，降低生產效率的問題，提供一種新型連續鍍膜線真空冷阱的布置方式和工作方法。

本發明的第一方面，本發明提供了一種新型連續鍍膜線真空冷阱的布置方式，該布置方式將冷阱系統安裝于鍍膜工藝室外的外側，且通過管路與鍍膜工藝室連通；

冷阱系統包括冷阱和與冷阱連接的冷阱盤管；將冷阱盤管通過加熱固定裝置固定于冷阱盤管腔室內；在冷阱盤管腔室上設置一復合真空規，用以檢測冷阱盤管腔室的真空度；

冷阱盤管腔室的一端連接于鍍膜工藝室，另一端連接于一前級泵抽系統；

在冷阱盤管腔室與前級泵抽系統連接的管道上、冷阱盤管腔室與鍍膜工藝室連接的管道上分別設置第一閥門和第二閥門；

在冷阱盤管腔室與外界大氣連接的管道上設置第三閥門。

進一步地，在冷阱盤管腔室的內壁上均勻的設置保溫層。

進一步地，保溫層的材料為聚四氟乙烯。