[發(fā)明專利]載臺組件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011297879.2 | 申請日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN112626477A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林俊成;鄭耀璇 | 申請(專利權(quán))人: | 鑫天虹(廈門)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 361101 福建省廈門市廈門火*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 組件 | ||
1.一種載臺組件,適用于防止基材的非目標(biāo)面受沉積,其特征在于,所述載臺組件包括:
基座,具有圓形凹槽,以使所述基座的中間形成圓形的基材承載座,所述圓形凹槽的外緣與所述基座的外緣之間具有第一距離并形成外墻底座,其中所述外墻底座具有外墻底座內(nèi)面,而所述外墻底座內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽;以及
外墻,沿著所述外墻底座向上延伸,所述外墻具有外墻內(nèi)面,而所述外墻內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽,其中所述外墻內(nèi)面與所述外墻底座內(nèi)面彼此切齊;
其中所述圓型凹槽的外緣與所述基材承載座的邊緣之間具有第一寬度,以及所述圓形凹槽的底部與所述外墻的頂部具有垂直的第一深度,其中所述第一深度與所述第一寬度的深寬比為1.5-4;
其中所述第一寬度小于或等于5毫米。
2.如權(quán)利要求1所述的載臺組件,其特征在于,其中所述第一深度與所述第一寬度的所述深寬比為2-2.5;其中所述第一寬度小于或等于2毫米。
3.如權(quán)利要求1所述的載臺組件,其特征在于,其中所述第一寬度小于或等于1毫米。
4.如權(quán)利要求1所述的載臺組件,其特征在于,其中所述基座與所述外墻為組合而成,而所述圓形凹槽的底部與所述外墻底座的頂部之間具有凹槽外側(cè)深度,以及所述圓形凹槽的底部與所述基材承載座的頂部具有凹槽內(nèi)側(cè)深度,其中所述凹槽外側(cè)深度大于、等于或小于所述凹槽內(nèi)側(cè)深度。
5.如權(quán)利要求4所述的載臺組件,其特征在于,其中所述凹槽外側(cè)深度大于1毫米;其中所述凹槽內(nèi)側(cè)深度大于1毫米。
6.如權(quán)利要求1所述的載臺組件,其特征在于,所述載臺組件更包括:
遮蔽頂座,為中空環(huán)狀圈體,設(shè)置于所述外墻的上方,所述遮蔽頂座圍繞一個中空部分,而所述中空部分的直徑小于所述圓形凹槽的圓形凹槽外緣的直徑。
7.如權(quán)利要求6所述的載臺組件,其特征在于,其中所述遮蔽頂座還包括底部內(nèi)緣,相鄰所述中空部分,而所述底部內(nèi)緣與所述圓形凹槽的外緣之間具有第三距離,而所述第三距離為1-3毫米;其中所述遮蔽頂座的底部與所述外墻的頂部之間具有第四距離,而所述第四距離為0-3毫米。
8.一種載臺組件,適用于防止基材的非目標(biāo)面受沉積,其特征在于,所述載臺組件包括:
基座,具有圓形凹槽,以使所述基座的中間形成圓形的基材承載座,所述圓形凹槽的外緣與所述基座的外緣之間具有第一距離并形成外墻底座,其中所述外墻底座具有外墻底座內(nèi)面,而所述外墻底座內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽;以及
外墻,沿著所述外墻底座向上延伸,所述外墻具有外墻內(nèi)面,而所述外墻內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽,其中所述外墻內(nèi)面與所述外墻底座內(nèi)面彼此切齊;
其中在所述基材承載座承載基材時,所述外墻內(nèi)面與所述基材之間具有第二寬度,以及所述圓形凹槽的底部與所述外墻的頂部具有垂直的第一深度,其中所述第一深度與所述第二寬度的深寬比為1-4。
9.一種載臺組件,適用于防止基材的非目標(biāo)面受沉積,其特征在于,所述載臺組件包括:
基座,具有圓形凹槽,以使所述基座的中間形成圓形的基材承載座,所述圓形凹槽的外緣與所述基座的外緣之間具有第一距離并形成外墻底座,其中所述外墻底座具有外墻底座內(nèi)面,而所述外墻底座內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽;以及
外墻,沿著所述外墻底座向上延伸,所述外墻具有外墻內(nèi)面,而所述外墻內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽,其中所述外墻內(nèi)面與所述外墻底座內(nèi)面彼此切齊;
其中在所述基材承載座承載基材時,所述外墻與所述基材之間具有第二寬度,且所述第二寬度為0.5-3毫米。
10.一種載臺組件,適用于防止基材的非目標(biāo)面受沉積,其特征在于,所述載臺組件包括:
基座,具有圓形凹槽,以使所述基座的中間形成圓形的基材承載座,所述圓形凹槽的外緣與所述基座的外緣之間具有第一距離并形成外墻底座,其中所述外墻底座具有外墻底座內(nèi)面,而所述外墻底座內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽;以及
外墻,沿著所述外墻底座向上延伸,所述外墻具有外墻內(nèi)面及外墻內(nèi)面頂端,其中所述外墻內(nèi)面頂端相鄰所述外牆內(nèi)面,而所述外墻內(nèi)面相鄰所述圓形凹槽,其中所述外墻內(nèi)面與所述外墻底座內(nèi)面彼此切齊;
其中所述基質(zhì)承載座的頂部與所述外墻內(nèi)面頂端之間具有第一垂直距離,且所述第一垂直距離為0.5-4毫米。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





