[發明專利]軌跡控制裝置

在審

• 申請號: 202011297170.2
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112835324A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 脇坂新路;小熊和行;安田光
• 申請（專利權）人: SMC株式會社
• 主分類號: G05B19/19
• 分類號: G05B19/19
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 崔巍

1.一種軌跡控制裝置，使軌跡追隨部件(28)沿著放置于任意位置的工件上的軌跡移動，該軌跡控制裝置(10)的特征在于，具備：

接觸傳感器(26)，該接觸傳感器能夠與所述工件的側面接觸；

致動器(24)，該致動器使所述軌跡追隨部件和所述接觸傳感器移動；以及

軌跡控制器(12)，該軌跡控制器基于基準位置的所述工件的側面的位置信息和放置于所述任意位置的所述工件的側面的位置信息，對所述基準位置的所述工件上的軌跡的XY坐標進行變換，從而計算出放置于所述任意位置的所述工件上的軌跡的XY坐標，

放置于所述任意位置的所述工件的側面的位置信息是通過所述接觸傳感器獲得的。

2.根據權利要求1所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

所述致動器包含：X軸致動器(24a)、Y軸致動器(24b)以及Z軸致動器(24c)，所述接觸傳感器和所述軌跡追隨部件安裝于所述Z軸致動器。

3.根據權利要求2所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

通過所述Z軸致動器的驅動對所述接觸傳感器和所述軌跡追隨部件的Z軸方向的位置進行調整，以使在所述接觸傳感器向工作位置移動時，所述軌跡追隨部件向退避位置移動，并且在所述軌跡追隨部件向工作位置移動時，所述接觸傳感器向退避位置移動。

4.根據權利要求1所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

所述軌跡控制器驅動所述致動器而使所述接觸傳感器在與X軸平行的兩個移動方向上前進，從而對所述工件的一個側面上的兩個接觸點的XY坐標進行檢測，并且，該軌跡控制器驅動所述致動器而使所述接觸傳感器在與Y軸平行的兩個移動方向上前進，從而對所述工件的另一個側面上的兩個接觸點的XY坐標進行檢測。

5.根據權利要求4所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

當所述接觸傳感器與所述一個側面或所述另一個側面接觸時，所述軌跡控制器使所述致動器停止。

6.根據權利要求4所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

所述軌跡控制器求出通過所述工件的一個側面上的兩個接觸點的第一直線的方程式、通過所述工件的另一個側面上的兩個接觸點的第二直線的方程式，并且求出所述第一直線與所述第二直線的交點的XY坐標，計算出所述工件的基準點的X坐標移動量和Y坐標移動量，并且對于所述工件的另一個側面，計算出從所述工件的基準位置起的傾斜角度。

7.根據權利要求6所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

基于所述工件的基準點的X坐標移動量、所述工件的基準點的Y坐標移動量以及所述傾斜角度，使用仿射變換計算出放置于所述任意位置的所述工件上的軌跡的XY坐標。

8.根據權利要求7所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

所述仿射變換基于下式：

x′＝(x)Cos(Δθ)-(y)Sin(Δθ)+tx

y′＝(x)Sin(Δθ)+(y)Cos(Δθ)+ty，

其中，式中的文字或符號的意思如下所述：

x′：放置于所述任意位置的所述工件上的軌跡的X坐標，

y′：放置于所述任意位置的所述工件上的軌跡的Y坐標，

x：所述基準位置的所述工件上的軌跡的X坐標，

y：所述基準位置的所述工件上的軌跡的Y坐標，

Δθ：所述傾斜角度，

tx：對所述工件的基準點的X坐標移動量加上基于仿射變換的所述基準點的X坐標移動量而得到的值，

ty：對所述工件的基準點的Y坐標移動量加上基于仿射變換的所述基準點的Y坐標移動量而得到的值。

9.根據權利要求8所記載的軌跡控制裝置，其特征在于，

基于所述仿射變換的所述基準點的X坐標移動量是對所述基準點的X坐標與將所述基準點以XY坐標系的原點為中心旋轉所述Δθ時的X坐標的差進行計算而得到的值，基于所述仿射變換的所述基準點的Y坐標移動量是對所述基準點的Y坐標與將所述基準點以XY坐標系的原點為中心旋轉所述Δθ時的Y坐標的差進行計算而得到的值。