[發(fā)明專利]過濾系統(tǒng)及清洗過濾裝置的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011287855.9 | 申請日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN114515464A | 公開(公告)日: | 2022-05-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇崇誠;楊豐安;鐘易龍 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D35/00 | 分類號: | B01D35/00;B01D35/143;B01D35/16;B01D46/66;B01D46/44;B01D46/88 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 李春秀 |
| 地址: | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 過濾 系統(tǒng) 清洗 裝置 方法 | ||
1.一種清洗過濾裝置的方法,其包括:
提供過濾裝置及傳感器,所述過濾裝置包括殼體及濾芯,所述殼體連接到入口、第一出口及第二出口,所述殼體與所述濾芯之間包括第一內腔,所述濾芯包括第二內腔,其中所述第一內腔連接到所述入口及所述第一出口,所述第二內腔連接到所述第二出口,所述傳感器設置于所述第一出口或所述第二出口的一側;
開啟入口閥,以使流體通過所述入口流入所述第一內腔,并流向所述第一出口及所述第二內腔;
利用所述傳感器測量通過所述第一出口的所述流體的第一數(shù)值;
基于所述第一數(shù)值,開啟或關閉第一控制閥;
利用所述傳感器測量通過所述第二出口的所述流體的第二數(shù)值;及
基于所述第二數(shù)值,開啟或關閉第二控制閥。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其中開啟或關閉所述第一控制閥時,持續(xù)開啟所述第二控制閥。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法,其中開啟或關閉所述第二控制閥時,持續(xù)開啟所述第一控制閥。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法,其還包括:
關閉所述第一控制閥及所述第二控制閥;
從所述入口閥通入惰性氣體,并通過所述第二出口排出所述流體以凈空所述第一內腔及所述第二內腔。
5.一種清洗過濾裝置的方法,其包括:
提供過濾裝置、第一傳感器及第二傳感器,所述過濾裝置包括殼體及濾芯,所述殼體連接到入口、第一出口及第二出口,所述殼體與所述濾芯之間包括第一內腔,所述濾芯包括第二內腔,其中所述第一內腔連接到所述入口及所述第一出口,所述第二內腔連接到所述第二出口及取樣口,所述第一傳感器設置于所述第一出口的一側,所述第二傳感器設置于所述第二出口的一側;
開啟入口閥,以使流體通過所述入口流入所述第一內腔,并流向所述第一出口及所述第二內腔;
利用所述第一傳感器測量通過所述第一出口的反應物的第一數(shù)值;
基于所述第一數(shù)值,開啟或關閉第一控制閥;
利用所述取樣口測量通過所述第二內腔的所述反應物的第二數(shù)值;
基于所述第二數(shù)值,開啟或關閉第二控制閥;
關閉所述第一控制閥及所述第二控制閥;及
當所述第一數(shù)值及/或所述第二數(shù)值接近所述反應物的初始數(shù)值時,從所述入口通入惰性氣體,并通過所述第二出口排出所述反應物以凈空所述第一內腔及所述第二內腔。
6.根據(jù)權利要求5所述的方法,其中所述初始數(shù)值、所述第一數(shù)值及所述第二數(shù)值包括酸堿值pH、氧化還原電位ORP及/或電導率EC。
7.根據(jù)權利要求5所述的方法,其還包括:
利用所述第一傳感器測量通過所述第一出口的所述惰性氣體,以確認所述第一內腔及所述第二內腔的凈空情況。
8.根據(jù)權利要求5所述的方法,其還包括:
利用所述取樣口測量凈空時流出所述第二內腔的所述反應物的第三數(shù)值。
9.一種過濾系統(tǒng),其包括:
過濾裝置,所述過濾裝置包括內腔,所述內腔連接到控制閥,所述過濾裝置經布置以過濾反應物;及
至少一傳感器,其設置于所述控制閥的一側,所述傳感器經布置以測量所述反應物的數(shù)值。
10.根據(jù)權利要求9所述的過濾系統(tǒng),其還包括取樣口設置于所述過濾裝置的一側并連接到所述過濾裝置的所述內腔。
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