[發明專利]一種有機半導體晶體的多溫區化學氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 202011281315.X | 申請日: | 2020-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN112391609B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發明(設計)人: | 黎志欣;徐永勝;王爽;李歡;李陽 | 申請(專利權)人: | 連城凱克斯科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C30B29/54;C30B25/00;C30B28/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 有機半導體 晶體 多溫區 化學 沉積 裝置 | ||
1.一種有機半導體晶體的多溫區化學氣相沉積裝置,包括工作臺(5),其特征在于,所述工作臺(5)的頂部外壁通過螺栓固定有安裝板(1),所述安裝板(1)一側外壁的頂部外壁與底部分別開有第一固定孔和第二固定孔,且第一固定孔的內壁插接有第一進氣管(2),所述第二固定孔的內壁插接有第二進氣管(3),所述安裝板(1)一側外壁通過螺栓固定有反應筒(7),所述反應筒(7)的內壁通過螺栓固定有安裝環(16),所述安裝環(16)的內壁通過螺栓固定有等距離分布的固定桿,所述固定桿的一端通過螺栓固定有連接板(17),所述連接板(17)的一側外壁通過軸承連接有轉桿(19),所述轉桿(19)的外壁分別通過螺栓固定有等距離分布的加速板(20)和煽動板(18),所述反應筒(7)的內壁通過螺栓固定有襯底架(10),所述襯底架(10)的頂部外壁開有等距離分布的通風孔(15),且反應筒(7)的外壁通過固定有減壓箱(9),所述減壓箱(9)的一側外壁通過螺栓固定有吸氣泵(4),所述吸氣泵(4)的輸入端套接有吸氣斗,所述減壓箱(9)的一側內壁通過螺栓固定有散氣板(24),所述散氣板(24)的一側外壁開有等距離分布的插接孔,所述插接孔的內壁插接有等距離分布的散氣管(25),所述散氣管(25)和通風孔(15)配合使用;所述襯底架(10)的頂部外壁通過螺栓固定有等距離分布的襯底(14),且襯底(14)和煽動板(18)配合使用;所述反應筒(7)的頂部外壁通過螺栓固定有加熱箱(8),且加熱箱(8)的底部外壁與反應筒(7)的內部相通,減壓箱(9)的一側外壁通過螺栓固定有出氣板(13);所述反應筒(7)的底部外壁開有安裝孔,且安裝孔的內壁通過螺栓固定有連接管(26),連接管(26)的一端通過螺栓固定有回收箱(11);所述回收箱(11)的一邊外壁開有滑槽,且滑槽的內壁通過螺栓固定有滑軌,滑軌的內壁滑動連接有回收抽屜(12);所述反應筒(7)外壁的兩側均通過螺栓固定有固定環(6),且固定環(6)的外壁通過螺栓固定有安裝桿(21),安裝桿(21)的一端通過螺栓固定于工作臺(5)的頂部外壁;所述加速板(20)的形狀設置為S形,且加速板(20)可以對氣體形成漩渦加速效果;所述反應筒(7)的一側外壁通過螺栓固定有過濾箱(23),且過濾箱(23)的頂部外壁開有等距離分布的排氣孔,排氣孔的內壁插接有排氣筒(22)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





