[發(fā)明專利]點(diǎn)云優(yōu)化方法、裝置及設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011279945.3 | 申請日: | 2020-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN112488910A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李玉成 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州視源電子科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T3/00 | 分類號: | G06T3/00;G06T7/50;G06T17/00 |
| 代理公司: | 廣州駿思知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44425 | 代理人: | 潘桂生 |
| 地址: | 510530 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 優(yōu)化 方法 裝置 設(shè)備 | ||
1.一種點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,包括步驟:
獲取目標(biāo)物體對應(yīng)的三維點(diǎn)云;
將所述三維點(diǎn)云投影至相機(jī)成像平面,得到所述三維點(diǎn)云對應(yīng)的二維深度圖;其中,所述二維深度圖中像素點(diǎn)的原始像素值為所述三維點(diǎn)云中對應(yīng)像素點(diǎn)的深度值;
根據(jù)多個(gè)預(yù)設(shè)的方向?yàn)V波核,分別對所述二維深度圖進(jìn)行卷積濾波操作,得到所述二維深度圖中每個(gè)所述像素點(diǎn)對應(yīng)的多個(gè)濾波像素值;其中,每個(gè)所述方向?yàn)V波核的濾波邊界分別表示不同形態(tài)的圖像邊緣;
將每個(gè)所述像素點(diǎn)的原始像素值替換為與所述像素點(diǎn)的原始像素值之間差值最小的濾波像素值,得到優(yōu)化后的二維深度圖。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,所述根據(jù)多個(gè)預(yù)設(shè)的方向?yàn)V波核,分別對所述二維深度圖進(jìn)行卷積濾波操作之前,包括步驟:
基于所述圖像邊緣的不同形態(tài),劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成多個(gè)所述方向?yàn)V波核;其中,所述有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域的劃分邊界為所述濾波邊界。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,所述圖像邊緣的形態(tài)包括豎直形態(tài)、水平形態(tài)、傾斜形態(tài)和轉(zhuǎn)角形態(tài),
所述基于所述圖像邊緣的不同形態(tài),劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成多個(gè)所述方向?yàn)V波核,包括步驟:
根據(jù)所述圖像邊緣的豎直形態(tài),以豎直方向劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成包括豎直濾波邊界的方向?yàn)V波核;
根據(jù)所述圖像邊緣的水平形態(tài),以水平方向劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成包括水平濾波邊界的方向?yàn)V波核;
根據(jù)所述圖像邊緣的傾斜形態(tài),以傾斜方向劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成包括傾斜濾波邊界的方向?yàn)V波核;
根據(jù)所述圖像邊緣的轉(zhuǎn)角形態(tài),以角度改變方向劃分所述方向?yàn)V波核中的有效濾波區(qū)域和無效濾波區(qū)域,生成包括轉(zhuǎn)角濾波邊界的方向?yàn)V波核。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,所述根據(jù)多個(gè)預(yù)設(shè)的方向?yàn)V波核,分別對所述二維深度圖進(jìn)行卷積濾波操作,得到所述二維深度圖中每個(gè)所述像素點(diǎn)對應(yīng)的多個(gè)濾波像素值,包括步驟:
根據(jù)第i個(gè)所述方向?yàn)V波核的濾波中心在所述二維深度圖中對應(yīng)的目標(biāo)位置,得到所述濾波中心對應(yīng)的目標(biāo)像素點(diǎn);
根據(jù)所述目標(biāo)位置和第i個(gè)所述方向?yàn)V波核的濾波半徑,得到所述二維深度圖中所述方向?yàn)V波核覆蓋的目標(biāo)區(qū)域;
基于所述第i個(gè)方向?yàn)V波核中各個(gè)濾波元素的值、所述目標(biāo)區(qū)域內(nèi)的像素點(diǎn)的原始像素值以及所述第i個(gè)方向?yàn)V波核中有效濾波元素的數(shù)量,獲取所述目標(biāo)像素點(diǎn)對應(yīng)的第i個(gè)濾波像素值;
移動所述第i個(gè)方向?yàn)V波核重復(fù)執(zhí)行上述步驟,直至得到所述二維深度圖中每個(gè)像素點(diǎn)對應(yīng)的第i個(gè)濾波像素值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,將每個(gè)所述像素點(diǎn)的原始像素值替換為與所述像素點(diǎn)的原始像素值之間差值最小的濾波像素值,得到優(yōu)化后的二維深度圖,包括步驟:
獲取與所述像素點(diǎn)的原始像素值之間差值最小的濾波像素值和最小差值;
若所述最小差值不大于預(yù)設(shè)無效差值閾值,將所述像素點(diǎn)的原始像素值替換為與所述像素點(diǎn)的原始像素值之間差值最小的濾波像素值,得到優(yōu)化后的二維深度圖。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的點(diǎn)云優(yōu)化方法,其特征在于,還包括步驟:
若所述最小差值大于預(yù)設(shè)無效差值閾值,將所述像素點(diǎn)的原始像素值替換為空值。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的點(diǎn)云的優(yōu)化方法,其特征在于,所述得到優(yōu)化后的二維深度圖之后,還包括步驟:
將所述優(yōu)化后的二維深度圖中像素點(diǎn)的像素值轉(zhuǎn)化為所述三維點(diǎn)云中對應(yīng)像素點(diǎn)的深度值,得到所述目標(biāo)物體對應(yīng)的優(yōu)化后的三維點(diǎn)云。
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