[發明專利]一種用于熒光強度基底計算的方法在審
| 申請號: | 202011275934.8 | 申請日: | 2020-11-16 |
| 公開(公告)號: | CN112461805A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發明(設計)人: | 張勝軍;湯四媛;羅繼全;李昆鵬 | 申請(專利權)人: | 三諾生物傳感股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N33/53;G01N33/58 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 肖平安 |
| 地址: | 410205 湖南省長*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 熒光 強度 基底 計算 方法 | ||
本發明涉及熒光免疫檢測技術領域,更具體地說,涉及一種用于熒光強度基底計算的方法。本發明所述用于熒光強度基底計算的方法,通過先確定所述熒光強度散點圖中T峰、C峰的峰值位置點,以及T峰、C峰的起始位置點、終止位置點,然后將對應峰起始點和峰終止點連線得到該線關于輸出數據序號對應的線性函數,即T峰、C峰分別得到其對應的基底函數;采用本發明所述用于熒光強度基底計算的方法,使得在計算濃度時計算T峰、C峰的峰值或T峰、C峰的峰面積先減去其對應的固定基底或減去其對應的基底函數進行校正,其相較現有固定基底計算方法更有利于降低濃度檢測的誤差,并有效解決在檢測較低濃度樣本時儀器測不出值的技術問題。
技術領域
本發明涉及熒光免疫檢測技術領域,更具體地說,涉及一種用于熒光強度基底計算的方法。
背景技術
在采用熒光免疫分析儀進行熒光免疫檢測的過程中,系統所產生的基底信號被疊加至檢測到的熒光強度數據中,會對測量精度有較大影響。基底信號即噪聲基底,又叫干擾信號,其取決于系統中目標檢測物質的自發熒光、光電探測器的暗電流和運放失調電壓等因素。此外,測試過程中產生的基底信號還可能受試條層析等影響,從而出現基底信號曲線出現凹凸不平的現象,因此為了提高測量的準確性,需要去除基底信號。
現有技術采用傳統減去固定基底數據的方法,會導致計算的T峰面積、峰值以及C峰面積、峰值存在較大誤差,甚至在檢測較低濃度樣本時,存在儀器測不出值的情況。
故,現有技術具有較大的改進空間。
發明內容
本發明的目的是為了彌補現有技術的不足,提出一種用于熒光強度基底計算的方法。
為了達到上述目的,本發明通過以下技術方案實現:
一種用于熒光強度基底計算的方法,包括以下步驟:
(1)采用熒光免疫分析儀以設定的測試頻率f、測試時間t對試劑卡進行測試,按序輸出熒光強度數據,從而在以輸出數據序號X為橫坐標、熒光強度值Y為縱坐標的坐標系上得到(f×t)個熒光強度點,得到對應的熒光強度散點圖;
(2)確定所述熒光強度散點圖中T峰、C峰的峰值位置點(XC,YC);
(3)確定所述T峰、C峰的起始位置點(XS,YS)、終止位置點(XE,YE);
(4)分別確定T峰、C峰的基底;所述T峰、C峰對應的基底的確定均包括以下步驟:將步驟(2)所得峰起始位置點(XS,YS)和峰終止位置點(XE,YE)連線,得到該線對應的線性函數f(X),將所述線性函數f(X)作為基底B的計算函數;所述基底B為每個輸出數據序號X對應于所述線性函數f(X)的函數值,即B=f(X),從而使得所述熒光散點圖中波峰范圍內每個熒光強度點均有對應的基底。
根據以上方案,步驟(4)還包括分別將T峰、C峰的峰值位置點的橫坐標XC代入線性函數f(X),得到T峰、C峰對應的基底BC=f(XC),以BC=f(XC)作為波峰范圍內的每個熒光強度點的基底。
根據以上方案,步驟(2)中所述T峰、C峰的峰值位置點(XC,YC)采用最大值或平均幅值法進行確定。所述最大值或平均幅值法為現有技術,在此不再詳述。
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