[發明專利]一種光器件

在審

• 申請號: 202011272415.6
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112269276A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 楊妍;唐波;張鵬;歐祥鵬;孫富君;李彬;劉若男;黃凱;謝玲;劉道群;李志華
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G02F1/01
• 分類號: G02F1/01
• 代理公司: 北京知迪知識產權代理有限公司 11628
• 代理人: 王勝利

本發明公開了一種光器件，涉及光器件技術領域，用于在加熱電極加熱過程中，使光波導均勻受熱，從而提高光器件的工作性能。該光器件包括：基底和熱場調節部。基底具有光波導、以及位于光波導上方的加熱電極。加熱電極具有鏤空區域。熱場調節部位于光波導和加熱電極之間。熱場調節部用于在加熱電極加熱過程中，調節加熱電極所產生的熱場的傳導范圍，以使光波導均勻受熱。

技術領域

本發明涉及光器件技術領域，特別是涉及一種光器件。

背景技術

加熱電極是光器件中非常重要的組成部分之一。具體的，加熱電極在通電的情況下，能夠為位于加熱電極下方的光波導加熱。基于熱光效應，受熱后的光波導，其光學性質(例如：折射率)會發生改變，從而實現對光波導內傳輸信號的調諧。同時，一般會在加熱電極上設置鏤空區域，以降低加熱電極的功耗，提高加熱效率。

但是，具有鏤空區域的加熱電極在加熱過程中，無法使得光波導被均勻加熱，進而使得光器件的工作性能較差。

發明內容

本發明的目的在于提供一種光器件，用于在加熱電極加熱過程中，使光波導均勻受熱，從而提高光器件的工作性能。

為了實現上述目的，本發明提供一種光器件，該光器件包括：

基底，基底具有光波導、以及位于光波導上方的加熱電極，加熱電極具有鏤空區域；

熱場調節部，熱場調節部位于光波導和加熱電極之間，熱場調節部用于在加熱電極加熱過程中，調節加熱電極所產生的熱場的傳導范圍，以使光波導均勻受熱。

與現有技術相比，本發明提供的光器件中，基底具有光波導和加熱電極。上述光波導能夠對光信號進行傳輸。上述加熱電極具有鏤空區域，并位于光波導的上方。加熱電極用于對光波導進行加熱，實現對光波導內傳輸信號的調諧。此外，在上述光波導和加熱電極之間還設置有熱場調節部，該熱場調節部能夠在加熱電極處于加熱過程中，調節加熱電極所產生的熱場的傳導范圍，以使光波導的各個區域均勻受熱。也就是說，即使為了降低加熱功耗使加熱電極具有鏤空區域，而使得加熱電極在加熱過程中產生的熱場的邊緣高低起伏，導致光波導的各個區域不能被該熱場均勻加熱，也可以通過熱場調節部對加熱電極產生的熱場的傳導范圍進行調節，使光波導的各個區域均位于熱場的傳導范圍內，從而使得光波導的各個區域被均勻加熱，進而確保加熱電極能夠按照要求對光波導內的傳輸信號進行調諧。由上述內容可知，本發明提供的光器件能夠在降低加熱功耗、提高加熱效率的同時，使光波導的各個區域均勻受熱，確保光波導輸出的光信號滿足工作要求，提高光器件的工作性能。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發明的進一步理解，構成本發明的一部分，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：

圖1是現有技術中光器件的結構俯視示意圖；

圖2是本發明實施例提供的一種光器件在熱場調節板所在位置的結構縱向剖視圖；

圖3a為本發明實施例中提供的網格型加熱電極的結構示意圖；

圖3b為本發明實施例中提供的蛇型加熱電極的結構示意圖；

圖3c為本發明實施例中提供的螺旋折線型加熱電極的結構示意圖；

圖4a為本發明實施例中提供的第一種熱場調節部的結構示意圖；

圖4b為本發明實施例中提供的第二種熱場調節部的結構示意圖；

圖4c為本發明實施例中提供的第三種熱場調節部的結構示意圖；

圖5a為本發明實施例中提供的網格型加熱電極與熱場調節部的位置關系示意圖；

圖5b為本發明實施例中提供的蛇型加熱電極與熱場調節部的位置關系示意圖；