[發明專利]氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202011267533.8
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112825296A
• 公開（公告）日: 2021-05-21
• 發明（設計）人: 鄭和俊;北邨友志
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本公開提供一種氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置，能夠響應性良好地分配氣體。該氣體供給系統被連接在具有第一氣體入口和第二氣體入口的腔室與氣體源之間，并且具有：流量調整單元，其具備多個流量調整線路，各流量調整線路具有成對的第一線路和第二線路，第一線路將氣體源與第一氣體入口連接，并且所述第一線路具有第一閥和第一節流孔，第二線路將氣體源和第二氣體入口連接，并且所述第二線路具有第二閥和第二節流孔，各流量調整線路中第一節流孔和第二節流孔具有相同的尺寸；以及控制部，其構成為控制各流量調整線路中的第一閥和第二閥的開閉。

技術領域

本公開涉及一種氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置。

背景技術

已知一種從多個氣體導入部向腔室內供給處理氣體來對被載置于腔室內的載置臺的基板實施期望的處理的等離子體處理裝置。

在專利文獻1中公開了一種在氣體管路中將被導入的氣體的氣流分割為氣體的兩個獨立的出口流的流動控制部。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：美國專利第8,772,171號

發明內容

發明要解決的問題

在一個方面，本公開提供一種響應性良好地分配氣體的氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置。

用于解決問題的方案

為了解決上述課題，根據一個方式，提供一種氣體供給系統，其被連接在具有第一氣體入口和第二氣體入口的腔室與至少一個氣體源之間，所述氣體供給系統具有：流量調整單元，其具備多個流量調整線路，各流量調整線路具有成對的第一線路和第二線路，所述第一線路將所述至少一個氣體源與所述第一氣體入口連接，并且所述第一線路具有第一閥和第一節流孔，所述第二線路將所述至少一個氣體源與所述第二氣體入口連接，并且所述第二線路具有第二閥和第二節流孔，各流量調整線路中所述第一節流孔和所述第二節流孔具有相同的尺寸；以及控制部，其構成為控制各流量調整線路中的所述第一閥和所述第二閥的開閉。

發明的效果

根據一個方面，能夠提供一種響應性良好地分配氣體的氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置。

附圖說明

圖1是表示等離子體處理裝置的概要的一例的截面圖。

圖2是氣體分離器的一例的結構示意圖。

圖3是控制部中存儲的表的一例。

圖4是說明控制部進行的流量比控制的一例的流程圖。

圖5是表示節流孔的尺寸的組合的一例的圖。

圖6是表示模擬結果的曲線圖的一例。

圖7是表示等離子體處理裝置的概要的一個其它例的截面圖。

圖8是氣體分離器的一個其它例的結構示意圖。

附圖標記說明